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J-GLOBAL ID：200903078934753636

基板処理装置

Inventor：
大仁 紀明

About 大仁 紀明

, 
山本 聡

About 山本 聡


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (3)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002379782
Publication number (International publication number)：2004214290
Application date： Dec. 27, 2002
Publication date： Jul. 29, 2004
Summary：
【課題】コネクタによるケーブル接続箇所を削減した基板処理装置を提供することを提供する。【解決手段】基板処理装置を、複数の処理ユニット(第1薬液処理ユニット8a〜8c、第2薬液処理ユニット15a〜15c、現像処理ユニット30a〜30cなど)と搬送機構とこれらを統括制御するサブコントローラ(サブコントローラSC2〜SC4など)とを備える複数のブロック(BARCブロック2、SCブロック3、SDブロック4など)から構成する。サブコントローラは、各制御対象の制御に際し、該制御対象に設けられたセンサ(漏液センサS8、S15、S30など)からの信号を受けとり、対応するコントローラ(薬液コントローラCCなど)に伝達する役割を果たす。これにより、各センサとコントローラとを個別に結線するための配線やコネクタが削減される。【選択図】 図4
Claim (excerpt)：
基板に所定の処理を行う装置であって、 少なくとも1つの処理ユニットと、 前記少なくとも1つの処理ユニットに基板を搬送する搬送手段と、 前記少なくとも1つの処理ユニットに設けられ、当該処理ユニットの状態を検知する少なくとも1つのセンサと、 前記少なくとも1つの処理ユニットと前記搬送手段とを制御する部分制御手段と、 をそれぞれが備える複数の部分制御単位と、 前記複数の部分制御手段を制御する主制御手段と、 前記少なくとも1つのセンサからの信号に応答して、当該センサの検知対象と対応した特定の制御対象について制御を行う少なくとも1つの特定制御手段と、を備え、 それぞれの前記部分制御手段と、前記主制御手段と、前記少なくとも1つの特定制御手段とがネットワーク接続されており、 かつ、 前記少なくとも1つのセンサは、同一の前記部分制御単位に備わる前記部分制御手段と電気的に接続されている、 ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (1)：
H01L21/027
FI (1)：
H01L21/30 562
F-Term (11)：
5F046CD01 ,  5F046DA29 ,  5F046DB02 ,  5F046DB03 ,  5F046DC05 ,  5F046DD06 ,  5F046JA04 ,  5F046JA22 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07 ,  5F046LA18
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-314288   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 多連型プロセス装置の制御システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-270569   Applicant：国際電気株式会社
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-085906   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
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Cited by examiner (12)
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-314288   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • インタ-ロック装置及び処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-179610   Applicant：東京エレクトロン株式会社
  • 加熱処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-000244   Applicant：東京エレクトロン株式会社
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