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J-GLOBAL ID:200903003551244452
ドライエッチング方法及びドライエッチング装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
松浦 憲三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008053532
Publication number (International publication number):2009212289
Application date: Mar. 04, 2008
Publication date: Sep. 17, 2009
Summary:
【課題】エッチングレートの高速化とレジスト選択比を向上させる。【解決手段】プロセスガスとして複数のフッ素系ガスからなる混合ガスを用い、前記プロセスガスを供給しながら高真空でプラズマを生成し、かつ低周波のバイアス電力を印加してエッチングを行うことを特徴とするドライエッチング方法を提供することにより、前記課題を解決する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プロセスガスとして複数のフッ素系ガスからなる混合ガスを用い、前記プロセスガスを供給しながら高真空でプラズマを生成し、かつ低周波のバイアス電力を印加してエッチングを行うことを特徴とするドライエッチング方法。
IPC (6):
H01L 21/306
, H01L 41/22
, H01L 41/09
, H01L 41/18
, H01L 21/824
, H01L 27/105
FI (9):
H01L21/302 105A
, H01L21/302 101C
, H01L21/302 104C
, H01L21/302 104Z
, H01L41/22 Z
, H01L41/08 C
, H01L41/08 L
, H01L41/18 101Z
, H01L27/10 444C
F-Term (26):
5F004AA03
, 5F004AA05
, 5F004BA20
, 5F004BB13
, 5F004BB18
, 5F004BB21
, 5F004BB22
, 5F004CA02
, 5F004CA06
, 5F004DA00
, 5F004DA01
, 5F004DA04
, 5F004DA18
, 5F004DA23
, 5F004DB00
, 5F004DB08
, 5F004EA05
, 5F004EA06
, 5F004EB08
, 5F083FR00
, 5F083GA27
, 5F083JA15
, 5F083JA38
, 5F083JA39
, 5F083PR03
, 5F083PR07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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ドライエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-113219
Applicant:松下電器産業株式会社
Cited by examiner (9)
-
PZT膜のドライエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-238538
Applicant:株式会社プラズマシステム
-
ドライエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-059696
Applicant:ローム株式会社, 株式会社プラズマシステム
-
ドライエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-113220
Applicant:松下電器産業株式会社
-
強誘電体膜のエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-126909
Applicant:シャープ株式会社
-
金属酸化膜のエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-150087
Applicant:日本電信電話株式会社
-
圧電構造体の製造方法および複合圧電振動子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-196133
Applicant:オリンパス光学工業株式会社, 江刺正喜
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-180453
Applicant:富士通株式会社
-
ドライエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-113221
Applicant:松下電器産業株式会社
-
ドライエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-113219
Applicant:松下電器産業株式会社
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