Pat
J-GLOBAL ID:200903004433242930

陰イオン発生方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 神保 欣正
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997015891
Publication number (International publication number):1998197018
Application date: Jan. 12, 1997
Publication date: Jul. 31, 1998
Summary:
【要約】【課題】 極めて小型で、且つ可動部分が無い構造により大量の陰イオンを発生する。【解決手段】 上下方向に延長されるダクト11の側面にパイプ7の一方の端を接続し、このパイプには噴出した水をダクトの内壁又は内壁に設けたターゲット12に衝突させるノズル6を内蔵又は他方の開口端に近接して設けると共に、このノズルとダクトの内壁又は内壁に設けたターゲットの間には網目を有するスクリーン10を設ける。
Claim (excerpt):
流路の入口側に配したノズルより流路内に向かって水を噴出することにより流路内に負圧を発生させて流路の入口から出口に向かう外気の流れを作ると共に、噴出された水が衝突するターゲットを流路内に配することにより、流路内に陰イオンを含むミスト雰囲気を形成し、流路内を通過する外気に負電荷を与え、陰イオンの濃度を増加させることを特徴とする陰イオン発生方法。
IPC (3):
F24F 7/00 ,  H01T 23/00 ,  A61N 1/44
FI (3):
F24F 7/00 B ,  H01T 23/00 ,  A61N 1/44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
Show all
Cited by examiner (9)
Show all

Return to Previous Page