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J-GLOBAL ID：200903004644015387

位置姿勢計測方法及び装置

Inventor：
内山 晋二

About 内山 晋二

, 
佐藤 清秀

About 佐藤 清秀


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (4)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003193633
Publication number (International publication number)：2005033319
Application date： Jul. 08, 2003
Publication date： Feb. 03, 2005
Summary：
【課題】撮像装置の位置姿勢計測において、簡便な構成により精度の高い計測結果を得ること。【解決手段】撮像装置の姿勢変化を示す信号を入力し(S302)、過去に求めた位置姿勢を用いて現時点の位置姿勢を予測する(S306)。また、撮像装置で撮影した現実空間の画像から検出した指標と、予測した位置姿勢から撮像した際に画像中に含まれる指標との対応関係を同定する(S308)。同定された指標対の数に応じて定まる修正方法によって、予測したカメラの位置姿勢の全自由度又はその一部を修正する(S312、S313)か、もしくは、予測したカメラの位置姿勢をそのまま利用する(S314)。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
現実空間を撮像する撮像装置の位置姿勢を計測する位置姿勢計測方法であって、 前記撮像装置の姿勢の変化量を計測する姿勢変化計測工程と、 前記撮影装置が撮像した現実空間画像中に含まれる指標の画像中の座標を求める第1の画像座標計算工程と、 過去に求めた前記撮像装置の位置姿勢と、前記姿勢変化計測工程で得られる姿勢の変化量とに基づいて、現在の前記撮像装置の位置姿勢を推定する位置姿勢推定工程と、 当該位置姿勢推定工程で得た位置姿勢における、前記撮像装置の撮像画面中における指標の座標を求める第2の画像座標計算工程と、 前記第1の画像座標計算工程で求めた指標の座標と、前記第2の画像座標計算工程で求めた指標の座標とから得られる情報量に応じた修正方法により、前記位置姿勢推定工程で推定した位置姿勢を修正する位置姿勢修正工程とを有することを特徴とする位置姿勢計測方法。
IPC (2)：
H04N5/232 ,  G01B11/00
FI (2)：
H04N5/232 B ,  G01B11/00 H
F-Term (11)：
2F065AA04 ,  2F065AA37 ,  2F065FF04 ,  2F065FF21 ,  2F065FF63 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ31 ,  5C022AB61 ,  5C022AB62 ,  5C022AB65
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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