ナノバブルによる水処理装置及びナノバブルによる水処理方法

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：相川俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007018554
Publication number (International publication number)：2008183502
Application date： Jan. 29, 2007
Publication date： Aug. 14, 2008
Summary：

【課題】大量のバラスト水に対応でき、簡便に水生生物に対して効果的な死滅効果を得ることができるナノバブル発生装置及び方法を提供する。【解決手段】酸素が溶存する水若しくは水溶液に超微細気泡(以下「ナノバブル」という)を発生させる方法や装置に関し、水酸基及び/又はOHラジカルラジカルを発生させるベータ線照射や、高圧水を噴射してナノバブルを発生させて、前記ナノバブルの界面に水酸基及び/又はOHラジカル配置させることを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

酸素が溶存する水若しくは水溶液に超微細気泡(以下「ナノバブル」という)を発生させる装置であって、水酸基及び/又はOHラジカルを発生させるベータ線照射手段と、高圧水を噴射可能なナノバブル発生手段と、を備え、前記ナノバブルの界面に水酸基及び/又はOHラジカルが存在することを特徴とするナノバブル発生装置。

IPC (6)：

B01F 3/04 , C02F 1/30 , C02F 1/50 , C02F 1/76 , B82B 3/00 , C01B 11/04

FI (10)：

B01F3/04 Z , C02F1/30 , C02F1/50 510E , C02F1/50 520F , C02F1/50 531M , C02F1/50 540B , C02F1/50 550D , C02F1/76 A , B82B3/00 , C01B11/04

F-Term (20)：

4D037AA02 , 4D037AA06 , 4D037AB03 , 4D037BA16 , 4D037BB09 , 4D050AA06 , 4D050AB06 , 4D050BB04 , 4D050BC10 , 4D050BD03 , 4D050BD04 , 4D050CA20 , 4G035AA01 , 4G035AB04 , 4G035AB05 , 4G035AC18 , 4G035AC33 , 4G035AE05 , 4G035AE13 , 4G035AE19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

ナノバブルの利用方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-288963 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
ナノバブル生成方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-109879 Applicant：ナノバブル株式会社
特願2005-342626号公報

Cited by examiner (5)

微小気泡の圧壊
Gazette classification：再公表公報 Application number：JP2004014561 Applicant：株式会社REO研究所, 独立行政法人産業技術総合研究所
曝気装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-140155 Applicant：山本孝
陰イオン発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-013578 Applicant：株式会社ファイン, 山路達範

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