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J-GLOBAL ID：200903005539723950

感光性樹脂組成物

Inventor： 西川 雅人 ,  坂本 幸
Applicant, Patent owner： クラリアント ジャパン 株式会社 ,  旭化成株式会社
Agent (1)： 鳴井 義夫 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999287674
Publication number (International publication number)：2001109149
Application date： Oct. 08, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高感度で高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れた感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A) 特定一般式の繰返し単位を含むポリアミド(100重量部) 、および(B) 特定一般式で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-4- スルフォン酸エステルおよび/ または1,2-ナフトキノンジアジド-5- スルフォン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤 (1 〜50重量部) よりなる感光性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(A) 下記一般式(1) の繰返し単位を含むポリアミド(100重量部) 、【化1】式中X1:【化2】A1:単結合、-O -、-C (CF3 )2 -、-CO-、-SO2 -X2:【化3】A2:単結合、-O -、-C (CF3 )2 -、-CO-、-SO2 -X3:2価の有機基a,b はモル分率を表し、a+b=100 モル%a =60.0 〜100 モル%b =0〜40.0モル%および(B) 下記一般式(2) で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-4- スルフォン酸エステルおよび/ または1,2-ナフトキノンジアジド-5- スルフォン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤 (1 〜50重量部) よりなる感光性樹脂組成物。【化4】式中k,l,m,n :1 または2 である。R1〜R10 :水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリル基、またはアシル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。Y1〜Y3:単結合、-O -、-S -、-SO-、-SO2 -、-CO-、-CO2 -、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、フェニレン、【化5】(R11及びR12 :水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリル基、または置換アリル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。) 、【化6】(R13〜R16 :水素原子、アルキル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。n=1 〜5 の整数である。) 、または【化7】(R17〜R20 :水素原子、アルキル基であり、それぞれ同一または相異なっていてもよい。) からなる連結基である。

IPC (5)：

G03F 7/037 501 ,  C08G 73/22 ,  C08L 79/04 ,  G03F 7/022 601 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/037 501 ,  C08G 73/22 ,  C08L 79/04 B ,  G03F 7/022 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (84)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB24 ,  2H025CB26 ,  2H025CB45 ,  4J002CL031 ,  4J002CL071 ,  4J002EV246 ,  4J002FD156 ,  4J002GP03 ,  4J002GQ00 ,  4J002GQ01 ,  4J043PA02 ,  4J043PA04 ,  4J043PA19 ,  4J043PC015 ,  4J043PC016 ,  4J043PC115 ,  4J043PC116 ,  4J043QB15 ,  4J043QB33 ,  4J043QB34 ,  4J043RA06 ,  4J043SA06 ,  4J043SA42 ,  4J043SA43 ,  4J043SA71 ,  4J043SA72 ,  4J043SB01 ,  4J043SB02 ,  4J043TA12 ,  4J043TA26 ,  4J043TB01 ,  4J043TB02 ,  4J043UA041 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA141 ,  4J043UA151 ,  4J043UA171 ,  4J043UA261 ,  4J043UA361 ,  4J043UA531 ,  4J043UA761 ,  4J043UB011 ,  4J043UB021 ,  4J043UB061 ,  4J043UB062 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043UB131 ,  4J043UB141 ,  4J043UB151 ,  4J043UB152 ,  4J043UB281 ,  4J043UB301 ,  4J043UB302 ,  4J043UB321 ,  4J043UB351 ,  4J043UB401 ,  4J043VA011 ,  4J043VA012 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA031 ,  4J043VA041 ,  4J043VA042 ,  4J043VA051 ,  4J043VA052 ,  4J043VA061 ,  4J043VA062 ,  4J043VA071 ,  4J043VA081 ,  4J043VA082 ,  4J043VA092 ,  4J043YA06 ,  4J043ZB22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 感光性樹脂組成物の現像方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-274991   Applicant：旭化成工業株式会社
• 感光性樹脂組成物のパターン加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-172478   Applicant：住友ベークライト株式会社
• アルカリ性水溶液及び感光性樹脂組成物のパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-335785   Applicant：住友ベークライト株式会社
• 特開平3-020743
  
• テトラフェノール系化合物、その製法および用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-048219   Applicant：住友化学工業株式会社
• コンタクトホール形成用ポジ型ホトレジスト組成物およびコンタクトホールの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-117222   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-117387   Applicant：住友ベークライト株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-206158   Applicant：住友ベークライト株式会社