加熱処理装置および加熱処理方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高山宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999373786
Publication number (International publication number)：2001189250
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】加熱プレートの載置面の温度をその全面にわたって略均一に維持しながら、加熱プレートを迅速に降温することができる加熱処理装置を提供すること。【解決手段】基板Wを所定温度に加熱処理する加熱処理装置(CHP)は、その表面に基板Wを近接または載置させて加熱処理する加熱プレート(51)と、加熱プレート(51)の裏面に冷却ガスを供給して、加熱プレートを降温する冷却ガス供給手段(74,78)とを具備し、冷却ガス供給手段(74,78)は、前記加熱プレートの冷却速度の遅い部位から冷却速度の速い部位に向けて冷却ガスが流れるように冷却ガスを供給する。

Claim (excerpt)：

基板を所定温度に加熱処理する加熱処理装置であって、その表面に基板を近接または載置させて加熱処理する加熱プレートと、前記加熱プレートの裏面に冷却ガスを供給して、前記加熱プレートを降温する冷却ガス供給手段とを具備し、前記冷却ガス供給手段は、前記加熱プレートの冷却速度の遅い部位から冷却速度の速い部位に向けて冷却ガスが流れるように冷却ガスを供給することを特徴とする加熱処理装置。

F-Term (3)：

5F046KA04 , 5F046KA07 , 5F046KA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

基板冷却装置および基板冷却方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-099219 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
温度制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-088236 Applicant：株式会社小松製作所
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-068202 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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Cited by examiner (6)

基板冷却装置および基板冷却方法
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