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J-GLOBAL ID:200903006112547030
露光装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001260270
Publication number (International publication number):2003068630
Application date: Aug. 29, 2001
Publication date: Mar. 07, 2003
Summary:
【要約】【課題】ランニングコストを低減し、回収気体を再利用しても信頼性の高い小型の回収装置を具備した実用性の高い露光装置を提供する。【解決手段】波長が300nm以下の露光光をマスク2に照明し、該マスク2のパターンを基板上に転写する露光装置において、前記露光光の光路の少なくとも一部に、高熱伝導率及び/又は高透過率を有する気体を供給する気体供給装置Bと、前記気体を回収するためのガス分離膜17を用いた気体回収装置Cとを具備し、該気体回収装置Cにより回収した気体の純度が99.95%以上、前記気体の回収率が50%以上であることを特徴とする。
Claim (excerpt):
波長が300nm以下の露光光をマスクに照明し、該マスクのパターンを基板上に転写する露光装置において、前記露光光の光路の少なくとも一部に、高熱伝導率及び/又は高透過率を有する気体を供給する気体供給装置と、前記気体を回収するためのガス分離膜を用いた気体回収装置とを具備し、該気体回収装置により回収した気体の純度が99.5%以上、前記気体の回収率が50%以上であることを特徴とする露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027
, B01D 53/22
, G03F 7/20 521
FI (4):
B01D 53/22
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 514 E
, H01L 21/30 516 F
F-Term (23):
4D006GA41
, 4D006JA63A
, 4D006KA12
, 4D006KA16
, 4D006KA67
, 4D006KA68
, 4D006KB12
, 4D006KE01Q
, 4D006KE06Q
, 4D006KE06R
, 4D006MB03
, 4D006PA01
, 4D006PB20
, 4D006PB62
, 4D006PB63
, 4D006PB70
, 4D006PC01
, 4D006PC80
, 5F046AA17
, 5F046AA22
, 5F046BA04
, 5F046CA07
, 5F046DA27
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (18)
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露光装置及びデバイス製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-324901
Applicant:株式会社ニコン
-
特開昭63-126522
-
特開平1-266831
-
無機分離膜及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-205020
Applicant:京セラ株式会社
-
水素ガス分離フィルタおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-309649
Applicant:京セラ株式会社
-
特開昭61-107921
-
特開平4-277008
-
六弗化硫黄ガス回収再生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-187561
Applicant:三菱電機株式会社
-
パーフルオロ化合物ガスの分離および回収方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-187877
Applicant:レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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特開昭63-126522
-
特開平1-266831
-
特開昭61-107921
-
特開平4-277008
-
ガス循環システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-166096
Applicant:株式会社東芝, 株式会社荏原製作所
-
露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-089089
Applicant:株式会社ニコン
-
投影露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-010375
Applicant:キヤノン株式会社
-
露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-320152
Applicant:キヤノン株式会社
-
無機キセロゲル膜を備えた気体透過膜、気体透過方法および湿度応答膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-206473
Applicant:工業技術院長
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