Pat

J-GLOBAL ID：200903006148784098

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 藤森 亨 ,  丹 史郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998102822
Publication number (International publication number)：1999295893
Application date： Apr. 14, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】 パターンプロファイルの形状が優れ、特にパターンプロファイルの矩形性に優れ、高解像力を有し、且つ孤立パターン再現性が優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること【解決手段】 特定の構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(I)で示される基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中、R1 、R2 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基を表し、Wは単結合もしくは2価の有機基を表し、R3 は酸の作用により分解する基を表す。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-136075   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-217524   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 平版印刷版材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-295601   Applicant：コニカ株式会社
• 高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-053361   Applicant：信越化学工業株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-019002   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-305113   Applicant：東京応化工業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-195615   Applicant：信越化学工業株式会社
• 新規なレジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173830   Applicant：和光純薬工業株式会社
• 特開昭63-010153