ポジ型感光性組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996217524
Publication number (International publication number)：1998062996
Application date： Aug. 19, 1996
Publication date： Mar. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】溶解阻止性能、現像性が優れ、良好なプロファイルと高解像力を有するポジ型感光性組成物、及びアセタール基又はケタール基による所望の保護率が、容易に得られるアセタール又はケタール保護基を有するフェノール性化合物又はフェノール性樹脂の製造方法をを提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、光酸発生剤並びに1個以上のフェノール性OH基及び1個以上のベンゼン環を有するフェノール化合物のOH基がアセタール基又はケタール基で保護された化合物であって、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて該化合物の全てのOH基が該保護基で保護されている化合物成分のパターン面積が全パターン面積の80%〜98%であり且つ該化合物の一部のOH基が該保護基で保護されている化合物成分のパターン面積が全パターン面積の2%〜20%であるような混合物を含有するポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

(a)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(b)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)1個以上のフェノール性OH基、及び1個以上のベンゼン環を有するフェノール化合物のOH基がアセタール基又はケタール基で保護された化合物であって、254nmの紫外線を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーにおいて、該化合物の全てのOH基がアセタール基又はケタール基で保護されている化合物成分のパターン面積が全パターン面積の80%〜98%であり、且つ該化合物の一部のOH基がアセタール基又はケタール基で保護されている化合物成分のパターン面積が全パターン面積の2%〜20%であるような混合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

化学増幅された放射線感受性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-210310 Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-285186 Applicant：日本ゼオン株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-286045 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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