Pat
J-GLOBAL ID:200903006325540030
半導体装置の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005008729
Publication number (International publication number):2005117069
Application date: Jan. 17, 2005
Publication date: Apr. 28, 2005
Summary:
【課題】 オフセット構造のTFTやLDD構造のTFTからなるCMOS型駆動回路を備えた従来の液晶パネルにおいては、Pチャネル型TFTとNチャネル型TFTの特性がアンバランスであり駆動回路の性能が低下するという問題点があった。【解決手段】 オフセット構造のTFTではPチャネル型TFTのオフセット長LoffPをNチャネル型TFTのオフセット長LoffNよりも大きく、またLDD構造のTFTでは低濃度領域の幅LLDDをNチャネル型TFTよりもPチャネル型 TFTの方を大きく設計するようにした。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
絶縁膜を介して第1ゲート電極に対向する第1半導体層に選択的にP型不純物を注入してP型領域を形成する工程と、
絶縁膜を介して第2ゲート電極に対向する第2半導体層に選択的にN型不純物を注入してN型領域を形成する工程と、
しかる後に、前記第1半導体層と前記第2半導体層を熱処理する工程と、を含み、
前記熱処理前の前記Pチャネル型薄膜トランジスタにおける前記第1ゲート電極と前記P型領域との距離を、前記熱処理前の前記Nチャネル型薄膜トランジスタにおける前記第2ゲート電極と前記N型領域との距離よりも大きく設定したことを特徴とする半導体装置の製造方法。
IPC (2):
FI (3):
H01L29/78 613A
, H01L29/78 616A
, H01L29/78 617A
F-Term (30):
5F110AA30
, 5F110BB02
, 5F110BB04
, 5F110BB05
, 5F110CC02
, 5F110DD02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE05
, 5F110EE44
, 5F110FF02
, 5F110FF29
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG25
, 5F110GG44
, 5F110HJ01
, 5F110HJ13
, 5F110HJ23
, 5F110HL03
, 5F110HL23
, 5F110HM14
, 5F110HM15
, 5F110NN02
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110PP01
, 5F110PP03
, 5F110QQ11
, 5F110QQ25
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (18)
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絶縁ゲイト型半導体装置およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-030220
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
薄膜半導体装置、液晶表示装置及びその製造方法、並びに電子機器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-339750
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
相補型MOSFET及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-132001
Applicant:沖電気工業株式会社
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-179433
Applicant:富士通株式会社
-
屋上等に敷設する天然芝の植栽用キット及びその植栽方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-238095
Applicant:渡辺物産株式会社, 三井化学産資株式会社
-
多肉植物の育成栽培用容器、育成栽培方法、緑化施工用ユニット及び緑化工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-337562
Applicant:グンゼ株式会社
-
植栽設置構造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-171746
Applicant:アーキヤマデ株式会社
-
ガーデニングタイル用トレイおよびガーデニング芝生タイル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-295145
Applicant:成田金属産業株式会社
-
多肉植物類による薄層緑化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-371458
Applicant:グンゼ株式会社
-
特許第3393205号
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排水機能を有するシートマット体構造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-145756
Applicant:株式会社ドコー
-
植生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-194677
Applicant:白水興産株式会社
-
プランターと植物栽培装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-021306
Applicant:シーアイ化成株式会社
-
植物栽培用プランター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-310840
Applicant:積水化成品工業株式会社
-
リサイクル緑化パネル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-420561
Applicant:日特建設株式会社
-
薄膜トランジスタとその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-108031
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
半導体装置とその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-187604
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
アクティブ・マトリックス型液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-250004
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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