薄膜磁気デバイスおよびその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：三反崎泰司 , 藤島洋一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007047172
Publication number (International publication number)：2007294882
Application date： Feb. 27, 2007
Publication date： Nov. 08, 2007
Summary：

【課題】高周波領域での透磁率をより効果的に向上させることが可能な薄膜磁気デバイス、を提供する。【解決手段】磁性膜14のうちの複数のスリット16に挟まれた帯状領域において、この帯状領域の幅方向(X磁区方向、磁化容易軸Me方向)を長手方向とする磁区14Deを、帯状領域の長手方向(Y軸方向)に沿って並んでいるようにする。磁化容易軸Meとコイル13とが互いに略平行となっている場合および互いに略直交となっている場合のいずれにおいても、高周波領域である程度の透磁率が維持される。なお、磁性膜14の磁化容易軸Meとコイル13とが略直交する領域に対応してスリット16を形成すると共に、このスリット16を磁化容易軸Meと直交する方向(磁化困難軸Mh方向)のみに延在させるようにするのが望ましい。【選択図】図18

Claim (excerpt)：

薄膜コイルと、前記薄膜コイルの延在面上に積層され、積層面内の一方向に延設された複数の帯状磁性膜とを備え、前記帯状磁性膜は、この帯状磁性膜の長手方向に沿って並んだ複数の磁区を有し、前記磁区の長手方向が、前記帯状磁性膜の幅方向と一致していることを特徴とする薄膜磁気デバイス。

IPC (2)：

H01F 17/04 , H01F 41/04

FI (3)：

H01F17/04 F , H01F17/04 A , H01F41/04 B

F-Term (5)：

5E062DD01 , 5E070AA01 , 5E070BA12 , 5E070CB02 , 5E070CB12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

薄膜積層形磁気誘導素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-271650 Applicant：富士電機株式会社
薄膜磁気デバイス及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-321636 Applicant：三菱電機株式会社

Cited by examiner (10)

インダクタ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-157731 Applicant：三菱電機株式会社
特開平4-363006
磁性人工格子膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-286741 Applicant：株式会社東芝

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