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J-GLOBAL ID：200903007023057069

高分子光導波路の製造方法

Inventor：
大津 茂実

About 大津 茂実

, 
清水 敬司

About 清水 敬司

, 
谷田 和敏

About 谷田 和敏

, 
圷 英一

About 圷 英一


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003058872
Publication number (International publication number)：2004086144
Application date： Mar. 05, 2003
Publication date： Mar. 18, 2004
Summary：
【課題】簡便な方法により、低コストで高分子光導波路を製造する方法を提供すること。【解決手段】1)鋳型形成用硬化性樹脂の硬化層から形成され、かつ、光導波路コア凸部に対応する凹部と、該凹部にコア形成用硬化性樹脂を充填するための進入口と、前記凹部から前記樹脂を排出させるための排出口とを有する鋳型を準備する工程、2)鋳型に該鋳型との密着性が良好なクラッド用フィルム基材を密着させる工程、3)クラッド用フィルム基材を密着させた鋳型の進入口から、コア形成用硬化性樹脂を毛細管現象により前記鋳型の凹部に充填する工程、4)充填したコア形成用硬化性樹脂を硬化させ、鋳型をクラッド用フィルム基材から剥離する工程、5)コアが形成されたクラッド用フィルム基材の上にクラッド層を形成する工程、を有する高分子光導波路の製造方法。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
1)鋳型形成用硬化性樹脂の硬化層から形成され、かつ、光導波路コア凸部に対応する凹部と、該凹部にコア形成用硬化性樹脂を充填するための進入口と、前記凹部から前記樹脂を排出させるための排出口とを有する鋳型を準備する工程、2)鋳型に該鋳型との密着性が良好なクラッド用フィルム基材を密着させる工程、3)クラッド用フィルム基材を密着させた鋳型の進入口から、コア形成用硬化性樹脂を毛細管現象により前記鋳型の凹部に充填する工程、4)充填したコア形成用硬化性樹脂を硬化させ、鋳型をクラッド用フィルム基材から剥離する工程、5)コアが形成されたクラッド用フィルム基材の上にクラッド層を形成する工程、を有する高分子光導波路の製造方法。
IPC (2)：
G02B6/13 ,  G02B6/12
FI (2)：
G02B6/12 M ,  G02B6/12 N
F-Term (8)：
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA28 ,  2H047QA00 ,  2H047QA05 ,  2H047TA31 ,  2H047TA43
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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