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J-GLOBAL ID:200903007248814268
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998236167
Publication number (International publication number):2000066382
Application date: Aug. 21, 1998
Publication date: Mar. 03, 2000
Summary:
【要約】【課題】 特に遠紫外線、X線あるいは電子線に有効に感応し、基板依存性が小さく、特にTiN、SiNやSiONのような塩基性基板でも裾引きが殆どない、矩形のパターンを形成でき、しかも感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (イ)p-ヒドロキシスチレン/(メタ)アクリル酸t-ブチル共重合体等で代表される、酸解離性基を有する共重合体、(ロ)感放射線性酸発生剤、および(ハ)水酸基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
Claim (excerpt):
(イ)(I)下記一般式(1)で表される繰返し単位および下記一般式(2)で表される繰返し単位を含有する共重合体、(ロ)感放射線性酸発生剤、および(ハ)水酸基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子またはメチル基を示す。〕【化2】〔一般式(2)において、R2 は水素原子またはメチル基を示し、R3 はt-ブチル基または下記一般式(3)【化3】{一般式(3)において、R4 およびR5 は、相互に独立に水素原子、炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または5〜8員環の環状アルキル基を示すか、または相互に結合して一般式(3)中の炭素原子と共に5〜8員環の炭素環構造を形成しており、R6 およびR7 は、相互に独立に水素原子、炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または5〜8員環の環状アルキル基を示すか、または相互に結合して一般式(3)中の2個の炭素原子と共に5〜8員環の炭素環構造を形成している。}で表される基を示す。〕
IPC (3):
G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
F-Term (24):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BC81
, 2H025BE00
, 2H025BE01
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025CB06
, 2H025CB14
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025CC20
, 2H025FA07
, 2H025FA12
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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レジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-113585
Applicant:東京応化工業株式会社
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化学増幅型ポジ型ホトレジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-113586
Applicant:東京応化工業株式会社
-
化学増幅型ホトレジスト及びそれを用いたレジストパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-113587
Applicant:東京応化工業株式会社
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