フォトレジスト用重合体混合物及びこれを含むフォトレジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：八田幹雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998306979
Publication number (International publication number)：1999305445
Application date： Oct. 28, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】フォトレジスト用重合体混合物、これを含むフォトレジスト組成物及びその製造方法を提供する。【解決手段】重合体の骨格に酸により化学反応を起こすジアルキルマロン酸エステル基が結合してなる、2つ以上のモノマーが重合した重合体と、(メタ)アクリル酸誘導体モノマーと1つ以上の他のモノマーが重合した重合体またはアルコキシスチレンモノマーと1つ以上の他のモノマーが重合した重合体の混合物である。これにより、コントラストが大きく、熱分解温度が高くて優秀なプロファイルのパターンを形成するに好適である。

Claim (excerpt)：

(a)重合体の骨格に酸により化学反応を起こす-CH(CO2 R0 )2 基(ただし、R0 は炭化水素基である。)が結合してなる、2つ以上の相異なるモノマーが重合した重合体と、(b)(メタ)アクリル酸誘導体モノマーと1つ以上の他のモノマーが重合した重合体とを含むことを特徴とする化学増幅型フォトレジスト用重合体混合物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , C08L 25/00 , C08L 33/04 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , C08L 25/00 , C08L 33/04 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-246541 Applicant：日本合成ゴム株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-249037 Applicant：三星電子株式会社
感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-280047 Applicant：日本合成ゴム株式会社

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