化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999199096
Publication number (International publication number)：2001027805
Application date： Jul. 13, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】高いドライエッチング耐性を有するDUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィーに好適な化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物において、多官能(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物において、多官能(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/027 502

FI (2)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/027 502

F-Term (19)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BC14 , 2H025BC43 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H025FA30 , 2H025FA41

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-012406 Applicant：住友化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-120919 Applicant：富士写真フイルム株式会社
単量体、高分子化合物、感光性組成物、これを用いたパタン形成方法および電子部品の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-260926 Applicant：株式会社東芝

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