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J-GLOBAL ID:200903009481724166
レーザ光発生方法及びその装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
逢坂 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998052271
Publication number (International publication number):1999251666
Application date: Mar. 04, 1998
Publication date: Sep. 17, 1999
Summary:
【要約】【課題】 簡易な構成で波長約193nmのレーザ光を発生すること。【解決手段】 Nd:YAGレーザから出射された波長946nmのレーザ光の第4高調波である波長236.5nmのレーザ光(e)と、Nd:YAGレーザ又はNd:YLFレーザから出射された波長1047nm〜1064nmのレーザ光(g)とを和周波混合して波長約193nmのレーザ光を発生する。
Claim (excerpt):
波長236.5nmのレーザ光と、波長1047nm〜1064nmのレーザ光とを非線形光学効果を利用して混合せしめ、波長192.9nm〜193.5nmのレーザ光を発生させる、レーザ光発生方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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光源装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-315087
Applicant:株式会社ニコン
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第4高調波発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-256484
Applicant:イビデン株式会社
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レーザ光発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-005425
Applicant:ソニー株式会社
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紫外レーザー光源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-140805
Applicant:株式会社ニコン
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加工用レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-194802
Applicant:ホーヤ株式会社
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レーザ加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-265963
Applicant:ソニー株式会社
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レーザ顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-072503
Applicant:ソニー株式会社
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半導体露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-006406
Applicant:ソニー株式会社
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特開平4-111484
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