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J-GLOBAL ID:200903009912711008

III族窒化物結晶の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007258567
Publication number (International publication number):2008143772
Application date: Oct. 02, 2007
Publication date: Jun. 26, 2008
Summary:
【課題】{0001}以外の任意に特定される主面を有する結晶性の高いIII族窒化物結晶の製造方法を提供する。【解決手段】本III族窒化物結晶の製造方法は、{0001}以外の任意に特定される面方位の主面20mを有するIII族窒化物結晶20の製造方法であって、III族窒化物バルク結晶1から、その特定される面方位の主面10pm,10qmを有する複数のIII族窒化物結晶基板10p,10qを切り出す工程と、それらの基板10p,10qの主面10pm,10qmが互いに平行で、かつ、それらの基板10p,10qの[0001]方向が同一になるように、横方向にそれらの基板10p,10qを互いに隣接させて配置する工程と、それらの基板10p,10qの主面10pm,10qm上に、III族窒化物結晶20を成長させる工程と、を含む。【選択図】図1
Claim (excerpt):
{0001}以外の任意に特定される面方位の主面を有するIII族窒化物結晶の製造方法であって、 III族窒化物バルク結晶から、前記特定される面方位の主面を有する複数のIII族窒化物結晶基板を切り出す工程と、 前記基板の前記主面が互いに平行で、かつ、前記基板の[0001]方向が同一になるように、横方向に前記基板を互いに隣接させて配置する工程と、 前記基板の前記主面上に、前記III族窒化物結晶を成長させる工程と、を含むIII族窒化物結晶の製造方法。
IPC (2):
C30B 29/38 ,  C30B 23/06
FI (2):
C30B29/38 C ,  C30B23/06
F-Term (15):
4G077AA02 ,  4G077AB02 ,  4G077BE13 ,  4G077DA02 ,  4G077DA18 ,  4G077EA02 ,  4G077ED04 ,  4G077ED05 ,  4G077ED06 ,  4G077HA02 ,  4G077HA06 ,  4G077HA12 ,  4G077SA01 ,  4G077SA04 ,  4G077SA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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