Pat
J-GLOBAL ID:200903009912711008
III族窒化物結晶の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (7):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
, 荒川 伸夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007258567
Publication number (International publication number):2008143772
Application date: Oct. 02, 2007
Publication date: Jun. 26, 2008
Summary:
【課題】{0001}以外の任意に特定される主面を有する結晶性の高いIII族窒化物結晶の製造方法を提供する。【解決手段】本III族窒化物結晶の製造方法は、{0001}以外の任意に特定される面方位の主面20mを有するIII族窒化物結晶20の製造方法であって、III族窒化物バルク結晶1から、その特定される面方位の主面10pm,10qmを有する複数のIII族窒化物結晶基板10p,10qを切り出す工程と、それらの基板10p,10qの主面10pm,10qmが互いに平行で、かつ、それらの基板10p,10qの[0001]方向が同一になるように、横方向にそれらの基板10p,10qを互いに隣接させて配置する工程と、それらの基板10p,10qの主面10pm,10qm上に、III族窒化物結晶20を成長させる工程と、を含む。【選択図】図1
Claim (excerpt):
{0001}以外の任意に特定される面方位の主面を有するIII族窒化物結晶の製造方法であって、
III族窒化物バルク結晶から、前記特定される面方位の主面を有する複数のIII族窒化物結晶基板を切り出す工程と、
前記基板の前記主面が互いに平行で、かつ、前記基板の[0001]方向が同一になるように、横方向に前記基板を互いに隣接させて配置する工程と、
前記基板の前記主面上に、前記III族窒化物結晶を成長させる工程と、を含むIII族窒化物結晶の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (15):
4G077AA02
, 4G077AB02
, 4G077BE13
, 4G077DA02
, 4G077DA18
, 4G077EA02
, 4G077ED04
, 4G077ED05
, 4G077ED06
, 4G077HA02
, 4G077HA06
, 4G077HA12
, 4G077SA01
, 4G077SA04
, 4G077SA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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窒化ガリウム結晶作成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-402601
Applicant:松下電器産業株式会社
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単結晶GaN基板の製造方法と単結晶GaN基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-207783
Applicant:住友電気工業株式会社
-
特開平3-075298
-
ダイヤモンドの合成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-018790
Applicant:住友電気工業株式会社
-
窒化物単結晶の製造方法及びその製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-211526
Applicant:学校法人早稲田大学, 株式会社フジクラ
-
窒化物半導体ウエハ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-109099
Applicant:日亜化学工業株式会社
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Cited by examiner (6)
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Application number:特願2006-109099
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特開平3-075298
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