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J-GLOBAL ID:200903010184045460
GaP系半導体発光素子
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
菅原 正倫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001263843
Publication number (International publication number):2003078162
Application date: Aug. 31, 2001
Publication date: Mar. 14, 2003
Summary:
【要約】【課題】 間接遷移型の発光形態においても十分な輝度の向上が可能であるGaP系半導体発光素子を提供する。【解決手段】 GaP系の半導体基体70において、p型層側の主面を第一主表面10、その反対側の主面を第二主面11とする。第二主面には、ラッピングした後、王水でエッチングすることにより、光の全反射を向上させるための、半導体基体70の内側に凸となる鏡面状の凹曲面51を集合形成させ、他方、半導体基体70における第一接触層62の形成領域と第二主面11以外に、異方性エッチングにより、光の全反射を低減させるための、外側に凸となる凸曲面53を集合形成させる。さらに、第二主面11に形成される第二接触層64(第二電極63)を、Au、SiおよびNiよりなる合金より形成し、第一主表面10に形成される第一接触層62を、Auと、BeもしくはZnとの合金より形成する。
Claim (excerpt):
p-n接合を有するGaP系の半導体基体と、該半導体基体に発光駆動電圧を印加させるための電極とを有し、前記半導体基体のp型層側の主面を第一主面、その反対側の主面を第二主面とし、前記半導体基体の第一主面および側面には、外側に凸となる凸曲面が集合した粗面が形成され、かつ前記第二主面は、王水でエッチングして形成された鏡面であることを特徴とするGaP系半導体発光素子。
F-Term (7):
5F041AA04
, 5F041CA12
, 5F041CA37
, 5F041CA63
, 5F041CA85
, 5F041CB15
, 5F041DA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特開昭59-023579
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特公昭52-038397
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半導体発光素子の製法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-108171
Applicant:ローム株式会社
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発光ダイオ-ド及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-373153
Applicant:信越半導体株式会社
-
発光素子用GaPエピタキシャル基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-059131
Applicant:昭和電工株式会社
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特開昭56-120174
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半導体発光素子および発光ランプ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-069421
Applicant:三洋電機株式会社
-
化合物半導体のオーム性電極及びその形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-320448
Applicant:信越半導体株式会社
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