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J-GLOBAL ID：200903010266514728

硫酸リサイクル型洗浄システム

Inventor：
山川 晴義

About 山川 晴義

, 
永井 達夫

About 永井 達夫

, 
池宮 範人

About 池宮 範人


Applicant, Patent owner：
栗田工業株式会社

About 栗田工業株式会社


Agent (1)： 横井 幸喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005289225
Publication number (International publication number)：2007103516
Application date： Sep. 30, 2005
Publication date： Apr. 19, 2007
Summary：
【課題】 硫酸を用いた洗浄システムにおいて、高度に清浄な表面が要求されるシリコンウエハ、液晶用ガラス基板、フォトマスク基板などの電子材料基板を効率的かつ確実に洗浄する。【解決手段】 硫酸溶液3を洗浄液として被洗浄材(半導体基板30)を洗浄する洗浄部(洗浄槽1)と、該洗浄部で洗浄に供した洗浄液を貯留する貯留部(貯留槽10)と、電解反応により溶液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を製造する電解反応装置(電解反応槽20、直流電源22)と、貯留部と電解反応装置との間で溶液を循環させる循環ライン(送り管14a、戻り管14b)を備える。好適には洗浄部において硫酸濃度8M〜18M、温度130〜200°Cの濃硫酸溶液とし、貯留部において温度80〜130°C未満の溶液とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
硫酸溶液を洗浄液として被洗浄材を洗浄する洗浄部と、該洗浄部で洗浄に供された洗浄液を貯留する貯留部と、電解反応により、溶液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸イオン含有溶液を製造する電解反応装置と、前記貯留部と電解反応装置との間で、溶液を循環させる循環ラインとを備えることを特徴とする硫酸リサイクル型洗浄システム。
IPC (3)：
H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10
FI (4)：
H01L21/304 648F ,  H01L21/304 642A ,  B08B3/08 Z ,  B08B3/10 Z
F-Term (10)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB02 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB99 ,  3B201CD21 ,  3B201CD43
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (9)
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