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J-GLOBAL ID:200903012002154629
粒子のサイズおよび形状を決定する方法および装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007502075
Publication number (International publication number):2007527997
Application date: Mar. 07, 2005
Publication date: Oct. 04, 2007
Summary:
粒子を計数し、選択したサイズ範囲に分類することによって粒子試料のサイズ分布を測定する機器。粒子濃度は、一度に複数の粒子から散乱を測定する確率が許容し得るレベルに下がるレベルに下げる。光ビームは、集束またはコリメートされ、粒子が貫通して流れる試料セルを通る。各粒子がビームを通過するとき、粒子は、粒子サイズに応じて、異なる量の光を散乱させ、吸収し、透過させる。そのため、粒子によって光が取り去られるためにビーム強度が減少し、かつ、粒子によって散乱する光が増大し、それらを利用して粒子サイズを求めて、粒子を分類し、ある種のサイズ範囲内で粒子を計数することができる。すべての粒子が単一ビームを通過する場合、各大型粒子ごとに多数の小型粒子を計数しなければならない。というのは、典型的な分布は粒子の体積単位で均一であり、個数分布は粒子径の3乗で体積の分布に関係するからである。
Claim (excerpt):
粒子試料中の複数の粒子サイズを決定する方法であって、
試料チャンバを供給する工程と、
レーザ光ビームを生成するレーザ光源を供給する工程と、
前記試料チャンバに前記粒子試料を通過させる工程と、
前記試料チャンバ中の特定ポイントに前記レーザ光ビームを集束させる工程であって、前記特定ポイントを通過する少なくとも1つの粒子によって前記レーザ光ビームが回折され、それにより前記特定ポイントから回折光が発する工程と、
光を対応する電子信号に変換する少なくとも1つの検出器アレイを供給する工程と、
前記試料チャンバ中の前記特定ポイントに集束する少なくとも1つのレンズを供給する工程であって、前記少なくとも1つのレンズが前記回折光の少なくとも一部を前記少なくとも1つの検出器アレイに向ける工程と、
前記少なくとも1つの検出器アレイによって発生した前記電子信号を解析することによって、前記回折光を発生させる前記少なくとも1つの粒子のサイズを決定する工程と、
を有することを特徴とする方法。
IPC (2):
FI (2):
G01N15/02 A
, G01B11/10 G
F-Term (9):
2F065AA26
, 2F065BB15
, 2F065FF44
, 2F065FF48
, 2F065GG04
, 2F065JJ05
, 2F065LL04
, 2F065QQ18
, 2F065QQ29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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特許第2943343号
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粒子分析装置及び複数の焦点位置を有するレンズ要素を一体化した複合レンズ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-076442
Applicant:日本分光株式会社, 日本光電工業株式会社
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特開昭61-051569
-
粒径分布測定装置並びにこの装置に用いるアレイ検出器およびその製作方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-327465
Applicant:株式会社堀場製作所
-
レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-167334
Applicant:株式会社島津製作所
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特許第2943343号
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特開昭61-051569
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特許第2943343号
-
特開昭61-051569
-
特開平2-134540
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検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-323047
Applicant:三洋電機株式会社
-
特許第3380555号
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粒度分布測定方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-315026
Applicant:日機装株式会社
-
粒度分布測定方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-238387
Applicant:科学技術庁航空宇宙技術研究所長, 日機装株式会社
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