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J-GLOBAL ID:200903083289500748
粒度分布測定方法および装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
円城寺 貞夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000238387
Publication number (International publication number):2002048700
Application date: Aug. 07, 2000
Publication date: Feb. 15, 2002
Summary:
【要約】【課題】測定者が粉体試料の屈折率等を設定する必要がなく、自動的に高精度の粒度分布を測定することのできる粒度分布測定方法および装置を提供する。【解決手段】相異なる複数種類の波長の照射光を発生可能な光源2から前記測定領域4にある前記試料に照射光を照射する手順と、前記照射光が前記試料によって回折・散乱された散乱光の散乱角度に対応した強度分布を複数種類の波長の照射光について測定する手順と、所定の演算定数の値を仮定して複数種類の波長の照射光による散乱光の強度分布からその波長に対応する粒度分布を演算し、それらの波長に対応する粒度分布の一致性を評価するとともに前記演算定数の値を変更することにより前記演算定数の値を決定する手順とを有する。
Claim (excerpt):
測定領域(4)にある試料の粒度分布を測定するための粒度分布測定方法であって、相異なる複数種類の波長の照射光を発生可能な光源(2)から前記測定領域(4)にある前記試料に照射光を照射する手順と、前記照射光が前記試料によって回折・散乱された散乱光の散乱角度に対応した強度分布を複数種類の波長の照射光について測定する手順と、所定の演算定数の値を仮定して複数種類の波長の照射光による散乱光の強度分布からその波長に対応する粒度分布を演算し、それらの波長に対応する粒度分布の一致性を評価するとともに前記演算定数の値を変更することにより前記演算定数の値を決定する手順とを有する粒度分布測定方法。
IPC (2):
FI (2):
G01N 15/02 A
, G01N 21/47 A
F-Term (23):
2G059AA05
, 2G059BB01
, 2G059BB04
, 2G059CC19
, 2G059CC20
, 2G059DD12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE11
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059GG07
, 2G059GG10
, 2G059JJ02
, 2G059JJ11
, 2G059JJ22
, 2G059KK03
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 2G059MM05
, 2G059MM09
, 2G059MM10
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
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粒子径分布測定装置および粒子径分布測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-266182
Applicant:株式会社堀場製作所
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粒度分布データの比較方法、および粒度分布測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-000997
Applicant:株式会社島津製作所
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レーザ回折/散乱式粒度分布測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-255957
Applicant:株式会社島津製作所
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微粒子測定方法及び微粒子測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-220629
Applicant:リオン株式会社
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粒度分布測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-118158
Applicant:株式会社島津製作所
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レーザ回折散乱を用いた粒子径分布測定方法および測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-250505
Applicant:財団法人ファインセラミックスセンター
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特開平3-013846
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特開平1-224642
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特表平3-505131
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