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J-GLOBAL ID:200903013103451817
大気圧プラズマアッセンブリ
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2002538461
Publication number (International publication number):2004526276
Application date: Oct. 26, 2001
Publication date: Aug. 26, 2004
Summary:
大気プラズマアッセンブリは、それぞれが誘電体プレート(31)に接合された平行に個別に隔てられた一対の平面電極(36)を有する。2つのスペーサプレート(21)は、プラズマ領域を形成するために誘電体プレート(31)を分離する。ノズルを有する散布ポール(40)は、誘電体プレート(31)と電極(36)上に冷却水を吹き付けるために用いられる。理想的には、誘電体プレート(31)と電極(36)は垂直に配置される。
Claim (excerpt):
電極間にあり、1つの電極(36)に隣接した少なくとも1つの誘電体プレート(31)を有する、平行に個別に隔てられた一対の平面電極(36)と、
前記誘電体プレート(31)ともう一方の誘電体プレート(31)または電極(36)との間にあり、前駆体ガス用のプラズマ領域(25)を形成する間隔と
を備えたタイプの大気圧プラズマアッセンブリ(2)において、
電極(36)が誘電体プレート(31)に隣接しているときに、冷却液分配システムは、前記電極の平面をカバーするために、冷却導電性液を前記電極(36)の外側に誘導するために提供されることを特徴とする大気圧プラズマアッセンブリ(2)。
IPC (3):
H05H1/24
, B01J19/08
, H01J37/32
FI (3):
H05H1/24
, B01J19/08 E
, H01J37/32
F-Term (18):
4G075AA30
, 4G075AA61
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075BC10
, 4G075CA03
, 4G075CA25
, 4G075CA47
, 4G075CA51
, 4G075CA57
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EC02
, 4G075EC21
, 4G075EE23
, 4G075FA03
, 4G075FB02
, 4G075FC15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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大気圧プラズマによる薄膜作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-002934
Applicant:丸山一典, 岡崎幸子, 小駒益弘
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大気圧グロ-放電用電極及び該電極を使用したプラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-009945
Applicant:イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
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特開平4-197269
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