3次元光学素子創製システム

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , , ,
Agent (3)：三枝英二 , 三枝英二 , 三枝英二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000128494
Publication number (International publication number)：2001311811
Application date： Apr. 27, 2000
Publication date： Nov. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】素子表面が曲面である3次元光学素子を精度よく製造することができる方法を提供する。【解決手段】素子表面が曲面である3次元光学素子を製造する方法であって、光学素子の曲面形状を設定するための形状設定データを決定し、素子を形成する基板上に感光性レジスト層を形成し、該レジスト層の表面形状を測定することにより形状測定データを得、前記形状設定データと形状測定データとの差から形状差データを得、該形状差データにおける差の大きさに応じてレーザーの照射量を変えつつ前記レジスト層にレーザー照射を行ない、前記レジスト層の現像処理により該レジスト層に精密位置出し面を得、これを光学素子面とすることを特徴とする3次元光学素子の製造方法。

Claim (excerpt)：

素子表面が曲面である3次元光学素子を製造する方法であって、光学素子の曲面形状を設定するための形状設定データを決定し、素子を形成する基板上に感光性レジスト層を形成し、該レジスト層の表面形状を測定することにより形状測定データを得、前記形状設定データと形状測定データとの差から形状差データを得、該形状差データにおける差の大きさに応じてレーザーの照射量を変えつつ前記レジスト層にレーザー照射を行ない、前記レジスト層の現像処理により該レジスト層に精密位置出し面を得、これを光学素子面とすることを特徴とする3次元光学素子の製造方法。

IPC (5)：

G02B 5/18 , G02B 5/00 , G03F 7/20 505 , G03F 7/24 , G03F 9/02

FI (5)：

G02B 5/18 , G02B 5/00 Z , G03F 7/20 505 , G03F 7/24 Z , G03F 9/02 Z

F-Term (20)：

2H042AA20 , 2H042AA32 , 2H049AA16 , 2H049AA18 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA48 , 2H049AA51 , 2H049AA57 , 2H097AA03 , 2H097AA16 , 2H097BA01 , 2H097BB01 , 2H097BB04 , 2H097CA17 , 2H097FA09 , 2H097KA01 , 2H097KA29 , 2H097KA38 , 2H097LA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

曲面グレーティングの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-282300 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
レーザ微細加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-052364 Applicant：住友重機械工業株式会社
ゾーンプレート製造方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-170372 Applicant：株式会社ニコン

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