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J-GLOBAL ID：200903016634841961

CMP工程排水処理装置

Inventor： 菅原 広 ,  川田 和彦
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 三浦 進二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998113863
Publication number (International publication number)：1999300352
Application date： Apr. 23, 1998
Publication date： Nov. 02, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 膜分離において高い透過流束を安定して得ることができる効率的なCMP工程排水処理装置を提供する。【解決手段】 酸性乃至中性研磨液を用いるCMP(ケミカルメカニカルポリッシング)工程排水を少なくとも含む排水を前処理する活性炭及び/又は陰イオン交換樹脂処理装置2、および、得られる前処理水を膜分離処理して濃縮水と透過水とに分離する孔径1nm〜1000nmの分離膜(精密濾過膜、限外濾過膜等)を備えた膜分離処理装置5を含み、CMP工程排水を濃縮してその容量を減らすための膜分離の際の分離膜の目詰まり頻度を減少させ、高い透過流束を安定して得ることで、装置の小型化とイニシャルコスト及びランニングニストの低下、装置運転の安定化を図る。

Claim (excerpt)：

酸性乃至中性研磨液を用いるCMP(ケミカルメカニカルポリッシング)工程排水を少なくとも含む排水を前処理する活性炭及び/又は陰イオン交換樹脂処理装置、および、得られる前処理水を膜分離処理して濃縮水と透過水とに分離する分離膜を備えた膜分離処理装置を含むことを特徴とするCMP工程排水処理装置。

IPC (8)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 61/16 ,  B01D 61/18 ,  B01J 41/04 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/42 ,  H01L 21/304 622

FI (8)：

C02F 1/44 K ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 61/16 ,  B01D 61/18 ,  B01J 41/04 G ,  C02F 1/28 D ,  C02F 1/42 A ,  H01L 21/304 622 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

• 純水製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-243407   Applicant：栗田工業株式会社
• ケミカルメカニカルポリッシング廃水処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-280248   Applicant：旭化成工業株式会社
• 特開昭62-061691
  
• 特開平4-358594
  
• 特開昭62-061691
  
• 粒状活性炭充填塔による過酸化水素の除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-344772   Applicant：オルガノ株式会社
• 超純水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-235887   Applicant：オルガノ株式会社
• 特開昭59-169592
  
• 特開昭59-189987
  
• 超純水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-020039   Applicant：野村マイクロ・サイエンス株式会社
• ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-115555   Applicant：旭化成工業株式会社
• 特開昭62-061691
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 逆浸透法・限外濾過法II応用 膜利用技術ハンドブック, 19780630, 初版第1刷, 34-35頁