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J-GLOBAL ID:200903017079210566
ナノ構造材料のための堆積方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (6):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 松丸 秀和
, 下山 治
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003573718
Publication number (International publication number):2005519201
Application date: Nov. 20, 2002
Publication date: Jun. 30, 2005
Summary:
基板の上にナノ構造材料のコーティングを堆積する方法は、(1)ナノ構造材料を含む溶液または懸濁液を形成する工程と、(2)この溶液中に選択的に「チャージャー」を加える工程と、(3)その溶液中に2つの電極を浸積する工程と、ここで、ナノ構造材料が堆積されることができる基板がその電極の1つとして働く、(4)ある時間の間この2つの電極の間に直電流およびまたは交電流電界を印可し、この溶液中のナノ構造を含む材料がこの基板電極に移動してこの基板に付着する工程と、(5)このコーティングされた基板の次のオープションの工程とを有することを特徴とする。
Claim (excerpt):
基板上にナノ構造を含む材料を堆積する方法であって、
(i)液体媒体中で予め形成されたナノ構造を含む材料の懸濁液を形成する工程と、
(ii)前記液体媒体中に選択的にチャージャー(charger)を加える工程と、
(iii)前記懸濁液中に少なくとも1つが前記基板からなる複数の電極を浸積する工程と、
(iv)前記浸積された電極に直電流または交電流を印可して前記電極の間に電界を生成して、前記ナノ構造を含む材料を前記基板に向かって移動させ付着させる工程と、
を有することを特徴とする方法。
IPC (6):
C25D13/02
, B82B1/00
, B82B3/00
, C01B31/02
, C25D13/10
, H01L29/06
FI (6):
C25D13/02 Z
, B82B1/00
, B82B3/00
, C01B31/02 101F
, C25D13/10 A
, H01L29/06 601N
F-Term (8):
4G146AA11
, 4G146AB07
, 4G146AD21
, 4G146BA04
, 4G146CA08
, 4G146CA11
, 4G146CB10
, 4G146CB17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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米国特許第6,280,697号
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米国出願一連番号09/296,572号
-
米国出願一連番号09/351,537号
-
米国特許第6,277,318号
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米国特許第6,334,939号
-
米国出願一連番号09/679,303号
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米国特許公表番号2002/0140336(出願一連番号09/817,164号)
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米国出願一連番号09/881,684号
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Cited by examiner (6)
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