修正装置、修正方法、制御装置、およびプログラム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大菅義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008111278
Publication number (International publication number)：2009262161
Application date： Apr. 22, 2008
Publication date： Nov. 12, 2009
Summary：

【課題】残存欠陥を自動的かつ正確に検出する。【解決手段】撮像部11がガラス基板2を撮像した欠陥画像に基づき画像処理部12は欠陥を検出し、欠陥の位置および範囲を認識する。レーザ発振器14は、検出された欠陥を修正するためのレーザ光を出力する。レーザ光は、欠陥に照射されるようにDMDユニット17により空間光変調される。DMDユニット17を駆動するドライバ20は、画像処理部12から出力されるデータに基づいて制御信号を出力するレーザ形状制御部19により制御される。残存欠陥検出部22は、欠陥の範囲におけるガラス基板2の高さに関する高さ情報を取得し、欠陥の修正後にさらに修正すべき残存欠陥が存在するか否かを、高さ情報に基づいて判断する。残存欠陥が存在すると判断されると、欠陥に対するレーザ照射と同様にして、残存欠陥に対するレーザ照射が行われる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

検査対象の基板において修正すべき欠陥を検出し、前記欠陥の位置および範囲を認識する欠陥検出手段と、前記欠陥の前記範囲における前記基板の高さに関する高さ情報を取得し、前記欠陥検出手段が検出した前記欠陥に対する修正の後にさらに修正すべき残存欠陥が前記欠陥の前記範囲の一部または全部に存在するか否かを、前記高さ情報に基づいて判断する残存欠陥検出手段と、前記欠陥を前記欠陥検出手段が検出したとき、前記欠陥を修正し、前記残存欠陥が存在すると前記残存欠陥検出手段が判断したとき、前記残存欠陥を修正するためのレーザ光を出力するレーザ発振器と、前記レーザ発振器が出力した前記レーザ光が、前記欠陥検出手段が検出した前記欠陥に照射されるように、前記欠陥の前記位置および前記範囲にしたがって前記レーザ光を空間光変調し、前記レーザ発振器が出力した前記レーザ光が、前記基板上の前記残存欠陥に照射されるように、前記レーザ光を空間光変調する2次元空間光変調手段と、を備えることを特徴とする修正装置。

IPC (7)：

B23K 26/06 , G01N 21/956 , B23K 26/00 , B23K 26/03 , B23K 26/04 , G02F 1/13 , G09F 9/00

FI (7)：

B23K26/06 Z , G01N21/956 Z , B23K26/00 H , B23K26/03 , B23K26/04 C , G02F1/13 101 , G09F9/00 352

F-Term (31)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AA65 , 2G051AB07 , 2G051BA01 , 2G051BB01 , 2G051BB03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051CC11 , 2G051DA20 , 2H088EA37 , 2H088FA15 , 2H088FA30 , 2H088HA02 , 2H088HA08 , 2H088HA21 , 2H088HA24 , 2H088HA28 , 2H088MA20 , 4E068CB02 , 4E068CC02 , 4E068CD11 , 4E068CE04 , 4E068DA09 , 5G435AA17 , 5G435AA19 , 5G435BB06 , 5G435BB12 , 5G435KK05 , 5G435KK10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

表面検査装置及び表面検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-141446 Applicant：住友化学工業株式会社
表面検査方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-086124 Applicant：住友金属鉱山株式会社
共焦点顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-080026 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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Cited by examiner (1)

レーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-246866 Applicant：株式会社東芝, 東芝電子エンジニアリング株式会社

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