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J-GLOBAL ID：200903019705776316

水素水製造装置、水素水製造方法および水素水

Inventor：
平山 憲二

About 平山 憲二

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澤 裕之

About 澤 裕之

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植田 耕司

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Applicant, Patent owner：
エイトノット株式会社

About エイトノット株式会社

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岩谷産業株式会社

About 岩谷産業株式会社

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岩谷瓦斯株式会社

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Agent (1)： 金丸 章一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004026358
Publication number (International publication number)：2005218885
Application date： Feb. 03, 2004
Publication date： Aug. 18, 2005
Summary：
【課題】 酸化還元電位を管理することができ、かつ低い酸化還元電位を持つ水素水を安定的に製造し得る水素水製造装置を提供する。【解決手段】 純水中の溶存気体を脱気する脱気モジュール2から、水素水を製造する水素給気モジュール5に供給される脱気水の供給量が所定量になるように、給水ポンプ1aの回転数を制御して逆浸透膜フィルタ1cを介して不純物を除去した純水を脱気モジュール2に供給し、水素給気モジュール5から排出される水素水の酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になるように、水素給気モジュール5に供給する水素量を制御すると共に、酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になるまで水素給気モジュール5から排出される水素水を水素水戻しライン12を介して原水供給源に戻して循環させ、酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になると、水素水排出弁8aを開弁する構成とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
給水ポンプ(1a)から供給される原水中の不純物を除去する逆浸透膜フィルタ(1c)が介装されてなる水供給ライン(1)を介して供給された純水中の溶存気体を脱気する脱気モジュール(2)と、この脱気モジュール(2)から流量計(4a)が介装されてなる脱気水供給ライン(4)が連通すると共に、水素量制御弁(7c)が介装されてなる水素供給ライン(7)が連通し、脱気水に水素を溶解させて水素水を製造する水素給気モジュール(5)と、この水素給気モジュール(5)に一端が接続され、水素水排出弁(8a)が介装されてなる水素水排出ライン(8)と、この水素水排出ライン(8)に排出される水素水の酸化還元電位を測定する酸化還元電位測定手段(9)と、前記流量計(4a)から脱気水の流量測定値が入力され、この流量測定値が設定した値になるように前記給水ポンプ(1a)の回転数を制御し、前記酸化還元電位測定手段(9)から入力される酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になるように前記水素量制御弁(7c)の開度を制御すると共に、酸化還元電位が予め定めた所定の範囲になると、前記水素水排出弁(8a)を開弁制御するコントローラ(10)とから構成されてなることを特徴とする水素水製造装置。
IPC (6)：
C02F1/68 ,  B01D19/00 ,  B01D61/00 ,  B01D61/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/44
FI (13)：
C02F1/68 510B ,  C02F1/68 520B ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 530K ,  C02F1/68 530L ,  C02F1/68 540D ,  C02F1/68 540Z ,  B01D19/00 H ,  B01D19/00 101 ,  B01D61/00 ,  B01D61/04 ,  C02F1/20 A ,  C02F1/44 H
F-Term (17)：
4D006GA03 ,  4D006GA32 ,  4D006JA71 ,  4D006KA31 ,  4D006KA72 ,  4D006KB17 ,  4D006KB30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB62 ,  4D006PC51 ,  4D011AA17 ,  4D037AA01 ,  4D037BA23 ,  4D037BB07 ,  4D037CA03 ,  4D037CA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 水素含有超純水の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-252847   Applicant：栗田工業株式会社
  • 水素溶解装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-205264   Applicant：株式会社ササクラ
  • 活性水素水製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-134670   Applicant：飯田恵巳
Cited by examiner (4)
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