静電チャックホールダ、ウエハ保持機構ならびにその使用方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：谷義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996136562
Publication number (International publication number)：1997097830
Application date： May. 30, 1996
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】成膜時とプラズマクリーニング時とで静電チャックと静電チャックホールダの冷却体との間の熱伝達効率を可変とし、成膜時にはウエハの加熱、冷却の効率を高め、プラズマクリーニング時には静電チャックホールダの温度を高く維持することを可能とする。【解決手段】ウエハ保持機構は、静電チャックのウエハ保持面と平行な層状のガス注入空間を備えたものとする。具体的には、ガス注入空間12Bを、冷却用ブロック12の静電チャック1側の上面と絶縁板11の下面とで形成し、絶縁板11にヒータ11Aを内蔵させる。

Claim (excerpt)：

誘電体中に吸着電極が埋め込まれ、この吸着電極を電源に接続して半導体ウエハに前記誘電体を介して静電気力を作用させ、前記誘電体表面に前記半導体ウエハを吸着保持する静電チャックを保持する静電チャックホールダであって、該静電チャックホールダは、金属ブロックとその上に結合されヒータを内蔵する絶縁板とを有し、前記絶縁板と前記金属ブロックの表面との間に前記静電チャックのウエハ保持面に平行な層状の隙間として成るガス注入空間が形成されていることを特徴とする静電チャックホールダ。

IPC (8)：

H01L 21/68 , B23Q 3/15 , C23C 14/50 , C30B 25/12 , H01L 21/205 , H01L 21/285 , H01L 21/31 , H02N 13/00

FI (8)：

H01L 21/68 R , B23Q 3/15 D , C23C 14/50 D , C30B 25/12 , H01L 21/205 , H01L 21/285 C , H01L 21/31 C , H02N 13/00 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

静電チヤツク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-294696 Applicant：富士電機株式会社
静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-354709 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-232804 Applicant：株式会社日立製作所

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