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J-GLOBAL ID:200903020966526021
暗信号を減少させることのできるイメージセンサ及びそのイメージセンサの素子分離方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人共生国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004194527
Publication number (International publication number):2005183920
Application date: Jun. 30, 2004
Publication date: Jul. 07, 2005
Summary:
【課題】暗信号を減少させるための素子分離が適用されたイメージセンサ及びその製造方法を提供する。【解決手段】ロジック部と複数のフォトダイオードを有する受光部とからなるイメージセンサにおいて、前記受光部に隣接するフォトダイオード間の領域は、半導体基板表面の下部に形成されたフィールドイオン注入領域20と前記半導体基板の上部に形成された絶縁膜30とによって前記フォトダイオードが分離されている。【選択図】図2
Claim (excerpt):
ロジック部と複数のフォトダイオードを有する受光部とからなるイメージセンサにおいて、
前記受光部に隣接するフォトダイオード間の領域は、半導体基板表面の下部に形成されたフィールドイオン注入領域と前記半導体基板の上部に形成された絶縁膜とによって前記フォトダイオードが分離されていることを特徴とする暗信号を減少させることのできるイメージセンサ。
IPC (4):
H01L27/146
, H01L21/316
, H01L21/76
, H04N5/335
FI (6):
H01L27/14 A
, H04N5/335 E
, H04N5/335 R
, H01L21/76 S
, H01L21/76 L
, H01L21/94 A
F-Term (36):
4M108AB03
, 4M108AB14
, 4M108AB36
, 4M108AC39
, 4M108AC42
, 4M108AC50
, 4M108AD11
, 4M108AD13
, 4M118AA05
, 4M118AB01
, 4M118BA10
, 4M118BA14
, 4M118CA03
, 4M118EA01
, 4M118FA06
, 4M118FA26
, 4M118FA28
, 4M118FA33
, 5C024CX32
, 5C024CY47
, 5C024GX03
, 5C024GY31
, 5C024HX01
, 5F032AA03
, 5F032AA13
, 5F032AA35
, 5F032AA44
, 5F032AC01
, 5F032BB01
, 5F032CA03
, 5F032CA15
, 5F032CA17
, 5F032DA23
, 5F032DA25
, 5F032DA30
, 5F032DA53
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
半導体受光装置とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-020178
Applicant:日本電気株式会社
-
CMOSイメージセンサ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-341819
Applicant:日本ビクター株式会社
Cited by examiner (3)
-
光電変換装置及び撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-152386
Applicant:キヤノン株式会社
-
CMOSイメージセンサおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-062580
Applicant:富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
-
半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-120732
Applicant:株式会社東芝
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