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J-GLOBAL ID:200903021236093908

薄層化学トランジスター及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005177422
Publication number (International publication number):2006100782
Application date: Jun. 17, 2005
Publication date: Apr. 13, 2006
Summary:
【解決手段】 金属/固体電解質/半導体構造を有する薄層化学トランジスターにおいて、固体電解質層及び半導体層を形成する物質が、有機溶剤に溶解可能な化合物であることを特徴とする薄層化学トランジスター。【効果】 本発明によれば、溶剤プロセスのみから作製されるため、インクジェットをはじめとするプリント技術により、容易に作製することが可能であり、TFT欠陥の確率を減少させて、製造コストの低減を図ることも可能となる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
金属/固体電解質/半導体構造を有する薄層化学トランジスターにおいて、固体電解質層及び半導体層を形成する物質が、有機溶剤に溶解可能な化合物であることを特徴とする薄層化学トランジスター。
IPC (2):
H01L 29/80 ,  H01L 51/05
FI (2):
H01L29/80 A ,  H01L29/28
F-Term (15):
5F102GB01 ,  5F102GC01 ,  5F102GD01 ,  5F102GJ10 ,  5F102GL00 ,  5F102GT10 ,  5F102HC00 ,  5F102HC11 ,  5G301CA02 ,  5G301CA08 ,  5G301CA14 ,  5G301CA16 ,  5G301CA17 ,  5G301CA20 ,  5G301CD01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 特表平5-508745号公報
Cited by examiner (3)

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