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J-GLOBAL ID:200903022069037568
蒸着装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
石島 茂男
, 阿部 英樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005071526
Publication number (International publication number):2006249558
Application date: Mar. 14, 2005
Publication date: Sep. 21, 2006
Summary:
【課題】ドロップレットによる欠陥の無い薄膜を形成する。 【解決手段】 蒸着源30と成膜対象物5の間に回転翼型のフィルタ装置20を配置し、回転軸線25を中心に回転させると、質量が大きく飛行速度が遅い巨大粒子はフィルタ装置20の羽根部材22に衝突し、質量が小さく飛行速度が速い微小粒子は羽根部材22間を通過し、成膜対象物5に到達する。ドロップレットが除去されるので、欠陥のない平坦な薄膜が得られる。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
真空槽と、前記真空槽内に配置された蒸着源と、成膜対象物が配置されるホルダとを有し、
前記蒸着源は、
筒状のアノード電極と、
蒸着材料で構成され、前記アノード電極で囲まれた領域内に配置されたカソード電極と、
前記カソード電極近傍に配置されたトリガ電極とを有し、
前記カソード電極と前記トリガ電極との間にトリガ放電を発生させ、前記カソード電極と前記アノード電極の間にアーク放電を誘起させ、前記カソード電極を蒸発させ、前記アノード電極の開口から蒸着材料粒子を放出させ、前記ホルダに配置された成膜対象物表面に薄膜を成長させる成膜装置であって、
前記蒸着源と前記ホルダとの間に細長の羽根部材を複数有するフィルタ装置を配置し、
前記羽根部材を移動させ、飛行速度が遅い蒸着材料粒子を前記羽根部材に付着させ、飛行速度が速い蒸着材料粒子を通過させ、前記成膜対象物表面に到達させるように構成された蒸着装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (8):
4K029AA06
, 4K029AA24
, 4K029CA02
, 4K029DA12
, 4K029DB17
, 4K029DD06
, 4K029EA00
, 4K029JA02
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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成膜方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-087902
Applicant:株式会社アルバック
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蒸着源及び成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-172607
Applicant:株式会社アルバック
-
成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-205206
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
薄膜形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-318083
Applicant:ミノルタ株式会社
-
蒸着源及び蒸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-017769
Applicant:株式会社アルバック
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Cited by examiner (6)
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成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-205206
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
特開昭61-210174
-
蒸着源及び蒸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-017769
Applicant:株式会社アルバック
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成膜方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-087902
Applicant:株式会社アルバック
-
同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-172367
Applicant:日本真空技術株式会社
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蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-108680
Applicant:日本真空技術株式会社
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