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J-GLOBAL ID：200903022787868974

マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： 河村 勝文 ,  三代 信之 ,  浜野 元幹 ,  斉藤 直樹 ,  小林 正博
Applicant, Patent owner： キヤノン販売株式会社 ,  キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997250503
Publication number (International publication number)：1999087094
Application date： Sep. 16, 1997
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 マイクロ波発振器の実稼動率を高め、スループットを向上させる。【解決手段】 複数のチャンバと1つの発振器を有するマイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波の伝搬経路を切替える切替手段を設ける。又、マイクロ波の伝搬モードを変換する変換手段を設け、均一性を高める。

Claim (excerpt)：

被処理体をプラズマ処理する為のチャンバの複数と、プラズマを生成する為のマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段とを有するマイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波発振器から該複数のチャンバに至るマイクロ波伝搬経路にマイクロ波の伝搬経路を切替える為の切替手段を具備することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  C23C 14/35

FI (6)：

H05H 1/46 B ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  C23C 14/35 F ,  H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 特開平3-039480
  
• 特開平2-094627
  
• プラズマ処理方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-101144   Applicant：住友金属工業株式会社
• マイクロ波によるプラズマ発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平2-417810   Applicant：ライボルトアクチエンゲゼルシヤフト
• プラズマプロセス装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-254939   Applicant：株式会社日立製作所
• マイクロ波プラズマCVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-308404   Applicant：電気興業株式会社, 東芝タンガロイ株式会社
• キャップ形の素材をコーティングする装置およびユニット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-178890   Applicant：カール-ツァイス-スティフツング
• 特開昭63-265892
  
• 特開昭63-090132
  
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-048460   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 日本高周波株式会社