マイクロ波プラズマ処理装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：丸島儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997250503
Publication number (International publication number)：1999087094
Application date： Sep. 16, 1997
Publication date： Mar. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】マイクロ波発振器の実稼動率を高め、スループットを向上させる。【解決手段】複数のチャンバと1つの発振器を有するマイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波の伝搬経路を切替える切替手段を設ける。又、マイクロ波の伝搬モードを変換する変換手段を設け、均一性を高める。

Claim (excerpt)：

被処理体をプラズマ処理する為のチャンバの複数と、プラズマを生成する為のマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段とを有するマイクロ波プラズマ処理装置において、マイクロ波発振器から該複数のチャンバに至るマイクロ波伝搬経路にマイクロ波の伝搬経路を切替える為の切替手段を具備することを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (6)：

H05H 1/46 , C23F 4/00 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , C23C 14/35

FI (6)：

H05H 1/46 B , C23F 4/00 D , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , C23C 14/35 F , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

特開平3-039480
特開平2-094627
プラズマ処理方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-101144 Applicant：住友金属工業株式会社

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Cited by examiner (10)

特開平3-039480
特開平2-094627
プラズマ処理方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-101144 Applicant：住友金属工業株式会社

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