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J-GLOBAL ID:200903023036195946

成膜装置の基板トレイ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中西 次郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003287138
Publication number (International publication number):2005054244
Application date: Aug. 05, 2003
Publication date: Mar. 03, 2005
Summary:
【課題】 本発明は、ガラス基板のマスク部及び成膜部との温度差を低減し、基板割れの生じにくい基板トレイを提供することを目的とする。【解決手段】成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置される基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、該マスクの両表面の放射率を0.2以上としたことを特徴とする。また、前記マスク両表面に凹凸を形成したことを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置される基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、該マスクの両表面の放射率を0.2以上としたことを特徴とする基板トレイ。
IPC (1):
C23C14/50
FI (1):
C23C14/50 K
F-Term (11):
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029CA01 ,  4K029DB21 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029JA01 ,  5C027AA07 ,  5C040GE09 ,  5C040JA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 基板構造体の製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-334832   Applicant:キヤノン株式会社
Cited by examiner (6)
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