パターン形成材料及びパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998099538
Publication number (International publication number)：1999297597
Application date： Apr. 10, 1998
Publication date： Oct. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】光及び荷電粒子線のいずれに対しても高い感度を有し、かつ、光及び荷電粒子線のいずれを用いて露光した場合においても良好な形状のレジストパターンを形成することが可能なパターン形成材料及びパターン形成方法を提供すること。【解決手段】本発明のパターン形成材料は、酸を適用することによりアルカリ溶液に対する溶解性に変化を生ずる溶解性可変化合物、フォトリソグラフィープロセスで使用される露光光を照射することにより酸を発生する第1の酸発生剤、及び前記露光光を透過し、荷電粒子線を照射することにより酸を発生する第2の酸発生剤を含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

酸を適用することによりアルカリ溶液に対する溶解性に変化を生ずる溶解性可変化合物、フォトリソグラフィープロセスで使用される露光光を照射することにより酸を発生する第1の酸発生剤、及び前記露光光を透過し、荷電粒子線を照射することにより酸を発生する第2の酸発生剤を含有することを特徴とするパターン形成材料。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/004 503

FI (2)：

H01L 21/30 502 R , G03F 7/004 503 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

レジスト材料およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-065814 Applicant：三菱電機株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-335913 Applicant：日本合成ゴム株式会社
光酸発生型のN-ショウノウスルホニルオキシ置換マレイミドの共重合体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-022774 Applicant：財団法人韓国科学技術研究院

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