フォーカスモニタ用マスク及びフォーカスモニタ方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999274701
Publication number (International publication number)：2001100392
Application date： Sep. 28, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】フォーカス状態からのずれ量及びずれ方向を高精度且つ簡便に検出することができ、露光精度の向上等に寄与し得る。【解決手段】フォトリソグラフィーによりウェハー上にパターンを転写する際に使用されるマスクであって、フォーカスモニタに供されるフォーカスモニタ用マスクにおいて、遮光膜13で囲まれて菱形の開口部101で形成された複数のモニタパターンを有する第1のパターン領域と、半透明膜12で囲まれて菱形の開口部102で形成された複数のモニタパターンを有する第2のパターン領域とを備えている。

Claim (excerpt)：

フォトリソグラフィーによりウェハー上にパターンを転写する際に使用されるマスクであって、遮光部で囲まれて第1の開口部で形成、又は第1の開口部で囲まれて遮光部で形成された少なくとも1つのモニタパターンを有する第1のパターン領域と、半透明膜で囲まれて第2の開口部で形成、又は第2の開口部で囲まれて半透明膜で形成され、第2の開口部を通過する露光光に対して半透明膜を通過する露光光に所定の位相差を与える少なくとも1つのモニタパターンを有する第2のパターン領域とを備え、前記各モニタパターンは、一方向に沿って中央部に対して両端部が細い形状であることを特徴とするフォーカスモニタ用マスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 , G03F 7/207 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 M , G03F 7/207 H , H01L 21/30 526 Z

F-Term (9)：

2H095BB03 , 2H095BE02 , 2H095BE09 , 5F046AA25 , 5F046CB17 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DC03 , 5F046DD03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

光学焦点テストマスクと監視システム及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-229601 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
露光装置の露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-140067 Applicant：株式会社東芝
位相シフトマスク及びそれを用いた焦点位置検出方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-113199 Applicant：沖電気工業株式会社

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