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J-GLOBAL ID：200903025458884097

光学用材料用組成物、光学用材料およびその製造方法

Inventor：
藤田 雅幸

About 藤田 雅幸

, 
大内 克哉

About 大内 克哉

, 
坂本 晴美

About 坂本 晴美

, 
津村 学

About 津村 学


Applicant, Patent owner：
鐘淵化学工業株式会社

About 鐘淵化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001033501
Publication number (International publication number)：2002235005
Application date： Feb. 09, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】光学的透明性が高くかつ耐候性と密着性に優れる光学用材料用組成物、光学用材料、その製造方法を提供すること。【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)シランカップリング剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量を75重量%以下にする。
Claim (excerpt)：
(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)シランカップリング剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が75重量%以下である光学用材料用組成物。
IPC (6)：
C08L 83/05 ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/541 ,  C08K 5/5415 ,  C08K 5/56 ,  G02B 1/04
FI (6)：
C08L 83/05 ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/5415 ,  C08K 5/56 ,  G02B 1/04 ,  C08K 5/54
F-Term (18)：
4J002BC011 ,  4J002BH021 ,  4J002BL011 ,  4J002BL021 ,  4J002BQ001 ,  4J002DA117 ,  4J002DE187 ,  4J002EE047 ,  4J002EW067 ,  4J002EW137 ,  4J002EX036 ,  4J002EX058 ,  4J002EX068 ,  4J002EZ007 ,  4J002FD148 ,  4J002FD150 ,  4J002GP00 ,  4J002GP01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (16)
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