共焦点顕微鏡イメージングシステム

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：青山葆 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000537103
Publication number (International publication number)：2002507762
Application date： Mar. 16, 1999
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】伸長したビームを使用する共焦点イメージングシステム。特異的態様は、電荷結合素子(CCD)を備えた装置に関し、装置は蛍光対象観察に使用する。

Claim (excerpt)：

a)それに沿って放射が伝搬される、光軸に横向きに伸びる電磁放射の伸長したビームを形成する手段;b)対象が位置する第1平面における第1伸長した領域に伸長したビームを向け、集束させる手段、および対象から放射される電磁放射を1個またはそれ以上の伸長した第2領域に向ける手段であり、各第2伸長した領域は第1平面に接合した異なる第2平面上である;c)第2接合面の最後の一つにおいて、または少なくとも一つの第2接合平面に接合した第3平面において、対象から放射される電磁放射が一致する検出エレメントの方形アレイを含む検出デバイス;そしてd)放射された電磁放射が検出エレメントの方形アレイに送達され、検出デバイスにより放射された電磁放射を走査と同調して示す多くの電子シグナルに変換されるように、対象に対して伸長したビームを動かすことにより、または対象を伸長したビームに対して動かすことにより対象を走査する手段:を含む、共焦点イメージングシステム。

IPC (4)：

G02B 21/00 , G01N 21/64 , G01N 33/15 , G01N 33/50

FI (4)：

G02B 21/00 , G01N 21/64 E , G01N 33/15 Z , G01N 33/50 Z

F-Term (46)：

2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043DA02 , 2G043DA06 , 2G043EA01 , 2G043FA02 , 2G043FA03 , 2G043GA02 , 2G043GA07 , 2G043GB18 , 2G043GB19 , 2G043HA01 , 2G043HA02 , 2G043HA09 , 2G043HA15 , 2G043KA09 , 2G043LA03 , 2G043MA01 , 2G043NA05 , 2G045AA25 , 2G045AA28 , 2G045CB01 , 2G045CB21 , 2G045DA12 , 2G045DA13 , 2G045DA14 , 2G045DA20 , 2G045DA36 , 2G045DB03 , 2G045FA16 , 2G045FA34 , 2G045FA36 , 2G045FB01 , 2G045FB02 , 2G045FB03 , 2G045HA14 , 2H052AA08 , 2H052AA09 , 2H052AB24 , 2H052AC04 , 2H052AC05 , 2H052AC06 , 2H052AC15 , 2H052AC27 , 2H052AD09 , 2H052AF14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

検出光学系並びに立体形状検出方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-134668 Applicant：株式会社日立製作所
特表平5-502305
レーザ顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-193795 Applicant：住友電気工業株式会社

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