微小構造体

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007276730
Publication number (International publication number)：2008290227
Application date： Oct. 24, 2007
Publication date： Dec. 04, 2008
Summary：

【課題】本発明は、熱リソグラフィを用いて簡易に形成することが可能な微小構造体及び該微小構造体の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、該微小構造体を用いる基板のパターニング方法並びに該微小構造体を有する構造物、情報記録媒体、原盤、光学素子、光通信装置、DNAチップ、発光素子、光電変換素子及び光学レンズを提供することを目的とする。【解決手段】微小構造体は、硫黄化合物及び酸化ケイ素を含有する。微小構造体の製造方法は、基板上に、硫黄化合物、酸化ケイ素及び光吸収能を向上させる材料を含有する層を形成する工程と、基板上に形成された層にレーザ光を照射する工程と、レーザ光が照射された層をエッチングする工程を有する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

硫黄化合物及び酸化ケイ素を含有することを特徴とする微小構造体。

IPC (9)：

B82B 1/00 , G02B 1/02 , B81B 1/00 , B81C 1/00 , B82B 3/00 , G02B 5/22 , G02B 5/18 , G02B 5/30 , G02B 1/11

FI (9)：

B82B1/00 , G02B1/02 , B81B1/00 , B81C1/00 , B82B3/00 , G02B5/22 , G02B5/18 , G02B5/30 , G02B1/10 A

F-Term (30)：

2H048CA05 , 2H048CA09 , 2H048CA17 , 2H048CA20 , 2H048CA21 , 2H049AA13 , 2H049AA37 , 2H049AA44 , 2H049AA56 , 2H049AA59 , 2H049BA05 , 2H049BC08 , 2H049BC25 , 2H249AA13 , 2H249AA37 , 2H249AA44 , 2H249AA56 , 2H249AA59 , 2K009AA10 , 2K009CC02 , 2K009CC03 , 2K009CC14 , 2K009DD12 , 3C081BA09 , 3C081CA13 , 3C081CA23 , 3C081DA43 , 3C081EA07 , 3C081EA14 , 3C081EA29

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

ZnO焼結体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-305946 Applicant：住友重機械工業株式会社
ポーラス酸化亜鉛膜、同製造方法、ポーラス酸化亜鉛膜を備えた色素増感型太陽電池、光触媒、化学センサー又は蛍光体、ポーラス酸化亜鉛膜形成用前駆体、同製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-207487 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
三次元微小構造物の製造方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-191762 Applicant：科学技術振興事業団

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Cited by examiner (9)

多値ROMディスク原盤の製造方法、製造装置及び多値ROMディスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-148452 Applicant：株式会社リコー
微細空間にナノ粒子を導入する方法およびその方法を用いて作製された構造体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-212394 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開昭52-020821

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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