Pat
J-GLOBAL ID:200903027266182652
機能液製造装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
樺澤 襄
, 樺澤 聡
, 山田 哲也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007230568
Publication number (International publication number):2009061379
Application date: Sep. 05, 2007
Publication date: Mar. 26, 2009
Summary:
【課題】多種類の機能液を製造できる機能液製造装置を提供する。【解決手段】任意の原液2が貯留される原液貯留部3を設ける。また、原液2中に溶解可能な複数のガスを発生できるガス発生部4を設ける。さらに、渦流ポンプ5を備え機能液6を生成する溶解部7を設ける。溶解部7の渦流ポンプ5は、原液貯留部3の原液2を吸込むとともにその際に発生する負圧によってガス発生部4で発生した複数のガスの中から選択されたガスを吸込む。そして、渦流ポンプ5内では、原液2に渦流が生じ原液2にガスを加圧混合溶解して機能液6を生成する。なお、原液貯留部3の原液2およびガス発生部4で発生するガスは任意で選択でき、これら原液2およびガスを任意で選択することで、多種類の機能液6を製造できる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
任意の原液が貯留される原液貯留部と、
前記原液中に溶解可能な複数のガスを発生できるガス発生部と、
前記原液を吸込むとともにその際に発生する負圧によって前記ガス発生部で発生した複数のガスの中から選択されたガスを吸込む渦流ポンプにより、前記原液中に前記ガスを加圧混合溶解させ機能液を生成して吐出する溶解部と
を具備したことを特徴とする機能液製造装置。
IPC (8):
B01F 1/00
, C02F 1/68
, C02F 1/78
, C02F 1/20
, B01D 19/00
, B01F 3/04
, B01F 5/12
, C25B 1/04
FI (11):
B01F1/00 A
, C02F1/68 510B
, C02F1/68 520B
, C02F1/68 530A
, C02F1/68 540Z
, C02F1/78
, C02F1/20 A
, B01D19/00 D
, B01F3/04 C
, B01F5/12
, C25B1/04
F-Term (20):
4D011AA12
, 4D011AD03
, 4D037AA02
, 4D037BA23
, 4D037BB06
, 4D050AA04
, 4D050BB02
, 4D050BD03
, 4G035AA01
, 4G035AB16
, 4G035AC33
, 4K021AA01
, 4K021AB15
, 4K021BA02
, 4K021BA03
, 4K021BC09
, 4K021CA09
, 4K021DB05
, 4K021DC01
, 4K021DC03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (12)
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酸素水製造方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-319151
Applicant:ケミコア株式会社, ビーゴ株式会社
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水素水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-342185
Applicant:株式会社ノーリツ
-
特開平4-337095
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排ガス処理機能を備えた機能水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-371065
Applicant:野村マイクロ・サイエンス株式会社, 株式会社コアテクノロジー
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オゾン水供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-016781
Applicant:株式会社ササクラ
-
ガス吸収装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-167537
Applicant:田部井康一, 阪野昇
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オゾンガス発生装置及びオゾン溶解水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-076310
Applicant:栗田工業株式会社
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加圧式水供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-321361
Applicant:ポエック株式会社
-
オゾン水処理装置及び洗浄処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-207221
Applicant:芝浦メカトロニクス株式会社
-
オゾン水水素水発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-114070
Applicant:澤本勲
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特開昭62-202805
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特開昭52-075686
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Cited by examiner (10)
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