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J-GLOBAL ID：200903027340322739

有機EL素子およびその製造方法

Inventor：
山口 嘉和

About 山口 嘉和

, 
福沢 真一

About 福沢 真一


Applicant, Patent owner：
日本電気株式会社

About 日本電気株式会社


Agent (1)： 高橋 詔男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000207463
Publication number (International publication number)：2002025781
Application date： Jul. 07, 2000
Publication date： Jan. 25, 2002
Summary：
【要約】【課題】 パターン形成装置等を必要とせず、真空蒸着装置によって、有機EL素子作製基板を大気に曝することなく真空一貫工程で、製造工数の増大を招くことなく、有機EL素子の信頼性低下を防止し、製造コストの低減を可能とする。【解決手段】 基板11に並設された複数の透明電極12と、隣接する透明電極12どうしの間のスペース部Sに形成された絶縁有機層18と、これら透明電極および絶縁有機層の上側に形成された発光層15を含む有機層19と、有機層19の上側に透明電極12と交差する方向に延在する複数の陰極17と、を具備する有機EL素子10の製造方法であって、透明電極12を形成する工程と、絶縁有機層18を形成する工程と、有機層19を形成する工程と、陰極17を形成する工程との各工程を真空一貫でおこなう。
Claim (excerpt)：
基板に並設された複数の透明電極と、前記透明電極と交差する方向に延在する複数の陰極と、これら透明電極と陰極との間に形成された発光層を含む有機層と、を具備する有機EL素子であって、隣接する前記透明電極どうしの間のスペース部に、絶縁有機層が形成されてなることを特徴とする有機EL素子。
IPC (3)：
H05B 33/22 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (3)：
H05B 33/22 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
F-Term (11)：
3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
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