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J-GLOBAL ID:200903027910517067
窒化物半導体発光素子、窒化物半導体発光素子の製造方法および窒化物半導体トランジスタ素子
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007009282
Publication number (International publication number):2007273951
Application date: Jan. 18, 2007
Publication date: Oct. 18, 2007
Summary:
【課題】高温かつ高出力の駆動においても十分な信頼性を得ることができる窒化物半導体発光素子およびその窒化物半導体発光素子を製造するための窒化物半導体発光素子の製造方法、ならびに信頼性を向上することができる窒化物半導体トランジスタ素子を提供する。【解決手段】光出射部にコート膜が形成されており、コート膜はアルミニウムの窒化物結晶またはアルミニウムの酸窒化物結晶を含む窒化物半導体発光素子と、その窒化物半導体発光素子の製造方法である。また、窒化物半導体層と窒化物半導体層に接するゲート絶縁膜とを含み、ゲート絶縁膜がアルミニウムの窒化物結晶またはアルミニウムの酸窒化物結晶を含む窒化物半導体トランジスタ素子である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
光出射部にコート膜が形成されており、前記コート膜はアルミニウムの窒化物結晶またはアルミニウムの酸窒化物結晶を含むことを特徴とする、窒化物半導体発光素子。
IPC (5):
H01S 5/343
, H01L 21/338
, H01L 29/778
, H01L 29/812
, H01L 29/78
FI (3):
H01S5/343 610
, H01L29/80 H
, H01L29/78 301B
F-Term (32):
5F102FA01
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD01
, 5F102GD10
, 5F102GJ04
, 5F102GL04
, 5F102GM07
, 5F102GQ01
, 5F102GV09
, 5F140BA06
, 5F140BA09
, 5F140BB18
, 5F140BD04
, 5F140BE09
, 5F140BE10
, 5F173AA05
, 5F173AA47
, 5F173AG12
, 5F173AH22
, 5F173AL02
, 5F173AL04
, 5F173AL05
, 5F173AL13
, 5F173AL14
, 5F173AL19
, 5F173AP76
, 5F173AP78
, 5F173AP82
, 5F173AR14
, 5F173AR68
, 5F173AR75
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (7)
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半導体レーザの製造方法、半導体レーザ、半導体装置の製造方法および半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-191614
Applicant:ソニー株式会社
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窒化物半導体発光素子および窒化物半導体レーザ素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-329465
Applicant:シャープ株式会社
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窒化物半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-159463
Applicant:日亜化学工業株式会社
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窒化ガリウム系発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-202726
Applicant:日亜化学工業株式会社
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半導体発光デバイス及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-070492
Applicant:住友電気工業株式会社
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特開平3-209895
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特開平1-183472
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