Pat
J-GLOBAL ID:200903044423979057
窒化物半導体レーザ素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004159463
Publication number (International publication number):2005340625
Application date: May. 28, 2004
Publication date: Dec. 08, 2005
Summary:
【課題】キンクを大幅に低減させ、高出力時の信頼性と低出力時の使い易さを両立させ得る大きなダイナミックレンジを有する窒化物半導体レーザ素子を提供する。【解決手段】窒化物からなるn型半導体層11〜14、活性層15およびp型半導体層16〜19が積層された積層半導体層と、n型半導体層とp型半導体層で活性層を挟む導波路領域に対してほぼ垂直な端面に位置する出射側のレーザミラーおよび反射側のレーザミラーとを具備する窒化物半導体レーザ素子であって、活性層は、青紫色〜緑色を含む波長領域内で発光が可能であり、フロント側のレーザミラーの反射率は60%以下である。【選択図】 図5
Claim (excerpt):
窒化物半導体からなる第1導電型の半導体層、活性層および第2導電型の半導体層が積層された積層半導体層と、前記活性層と該活性層を挟む第1導電型の半導体層および第2導電型の半導体層からなるレーザ光の導波路領域に対してほぼ垂直な端面に位置するフロント側のレーザミラーおよびリア側のレーザミラーとを具備する窒化物半導体レーザ素子であって、前記活性層は、InxAlyGa1-x-yN(0.05≦x≦0.25、0≦y≦0.95、0.05≦x+y≦1)であり、前記フロント側のレーザミラーの反射率は60%以下であることを特徴とする窒化物半導体レーザ素子。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (10):
5F173AA08
, 5F173AG20
, 5F173AH22
, 5F173AL04
, 5F173AL05
, 5F173AL06
, 5F173AL07
, 5F173AL13
, 5F173AP06
, 5F173AR15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (19)
-
化合物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-260302
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-095038
Applicant:株式会社日立製作所
-
窒化物半導体レーザ素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-303786
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-031623
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
GaN系レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-055786
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体レーザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-325192
Applicant:松下電器産業株式会社
-
青色半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-187525
Applicant:日本電気株式会社
-
半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-031984
Applicant:松下電器産業株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-368718
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体レーザ素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-076867
Applicant:株式会社日立製作所
-
半導体レーザ素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-036563
Applicant:ソニー株式会社
-
半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-070039
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
半導体レーザおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-353073
Applicant:ソニー株式会社
-
半導体素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-001751
Applicant:大阪瓦斯株式会社
-
レーザ素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-352014
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
窒化物系半導体素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-192722
Applicant:三洋電機株式会社
-
窒化物半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-117685
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
光学被膜、光学被膜の成膜方法、半導体レーザ素子及びSHGデバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-313567
Applicant:ソニー株式会社
-
窒化物半導体レーザ素子および光学式情報記録再生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-325439
Applicant:シャープ株式会社
Show all
Return to Previous Page