近接場光プローブ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005363708
Publication number (International publication number)：2007163433
Application date： Dec. 16, 2005
Publication date： Jun. 28, 2007
Summary：

【課題】理論値に近い空間分解能を実現させることが可能な近接場光プローブを提供する。【解決手段】先端のコア部10に金属コート層12が形成され、前記金属コート層12にナノホール14もしくはナノグルーブが形成されていることを特徴とする近接場光プローブである。また、先端に金属球が設けられており、前記先端の幅方向断面の形状が円形もしくは楕円形であることを特徴とする近接場光プローブである。さらに、先端のコア部に第1の金属コート層が形成され、さらに、赤外不活媒質を含有する媒質層が、先端に向かって拡径した後さらに先端に向かって縮径するように形成され、前記縮径する領域の少なくとも一部に第2の金属コート層が形成されていることを特徴とする近接場光プローブである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

先端のコア部に金属コート層が形成され、前記金属コート層にナノホールもしくはナノグルーブが形成されていることを特徴とする近接場光プローブ。

IPC (3)：

G01N 13/14 , G12B 21/06 , B82B 1/00

FI (3)：

G01N13/14 B , G12B1/00 601C , B82B1/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

近視野顕微鏡用光伝搬体プローブの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-326709 Applicant：セイコーインスツルメンツ株式会社
近接場光プローブ作製装置及びその作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-431119 Applicant：株式会社リコー

Cited by examiner (8)

高光透過開口アレイ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-177513 Applicant：日本電気株式会社
ナノチューブ、ナノチューブプローブ及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-173106 Applicant：中山喜萬, 大研化学工業株式会社
近接場プローブおよび近接場プローブ製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-348123 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, オリンパス光学工業株式会社, シャープ株式会社

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