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J-GLOBAL ID：200903028753957615

モールド、モールドの製造方法、インプリント装置及びインプリント方法、インプリント方法を用いた構造体の製造方法

Inventor：
寺崎 敦則

About 寺崎 敦則

, 
関 淳一

About 関 淳一


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008022392
Publication number (International publication number)：2008230232
Application date： Feb. 01, 2008
Publication date： Oct. 02, 2008
Summary：
【課題】モールドの平坦性を維持することができ、インプリントにおいて被加工物側の樹脂の硬化を妨げないように構成することが可能な位置合わせ構造を有するモールド、モールドの製造方法、インプリント装置及びインプリント方法、インプリント方法を用いた構造体の製造方法を提供する。【解決手段】位置合わせ構造を有する位置合わせ構造領域103と、パターンを有するパターン形成領域102とを備え、基板上に塗布された樹脂に前記パターンをインプリントするモールド101である。このモールド101は位置合わせのために用いる光の少なくとも一部の波長域の光に対して透明な材料からなる。また、このモールド101の位置合わせ構造を構成する凹部の側壁には、モールド101とは異なる光学特性を有する材料からなる被覆層104が形成されている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
位置合わせ構造を有する位置合わせ構造領域と、パターンを有するパターン形成領域とを備え、基板上に塗布された樹脂に前記パターンをインプリントするモールドであって、 前記モールドは位置合わせのために用いる光の少なくとも一部の波長域の光に対して透明な材料からなり、かつ、前記位置合わせ構造を構成する凹部の側壁には、該モールドとは異なる光学特性を有する材料からなる被覆層が形成されていることを特徴とするモールド。
IPC (4)：
B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  B29C 33/42 ,  B29C 33/38
FI (4)：
B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  B29C33/42 ,  B29C33/38
F-Term (25)：
4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD22 ,  4F202CD24 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ06 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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