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J-GLOBAL ID：200903029547534461

製品の均質な加熱方法

Inventor：
アイズナー,ペーター

About アイズナー,ペーター

, 
プファイファー,トーマス

About プファイファー,トーマス


Applicant, Patent owner：
フラウンホッファー-ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ

About フラウンホッファー-ゲゼルシャフト ツァ フェルダールング デァ アンゲヴァンテン フォアシュンク エー.ファオ


Agent (1)： 三澤 正義
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008512682
Publication number (International publication number)：2008541706
Application date： May. 09, 2006
Publication date： Nov. 27, 2008
Summary：
本発明は、製品を均質に加熱する方法に関する。当該方法によれば、製品は、交番電磁場、特にHF場において加熱され、それにより製品の第1の領域は、第2の領域よりも強く加熱される。本発明の方法は、第1の領域が、少なくとも交番場における加熱プロセス前又は加熱プロセス中に、さらなる熱移動手段により冷却されること、第2の領域は、さらなる熱移動手段により加熱されることの、一方または両方を行うことを特徴とする。開示する方法により、高周波交番電磁場における加熱中の食品、医薬品、化粧品における温度プロフィールを均質化することが可能となる。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
製品を交番電磁場、特にHF場において加熱し、該製品の第1の領域を第2の領域よりも強く加熱し、 前記第1の領域を、さらなる熱移動手段により少なくとも前記交番場における加熱前又は加熱中に冷却すること、前記第2の領域を、さらなる熱移動手段により加熱すること、の一方または両方を行うことを特徴とする、製品の均質な加熱方法。
IPC (1)：
A23L 3/005
FI (1)：
A23L3/005
F-Term (4)：
4B021LP01 ,  4B021LP04 ,  4B021MC01 ,  4B021MP10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (21)
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