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J-GLOBAL ID：200903029940239897

化学増幅型レジスト組成物

Inventor：
羽田 英夫

About 羽田 英夫

, 
宮入 美和

About 宮入 美和

, 
林 亮太郎

About 林 亮太郎


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 棚井 澄雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001274195
Publication number (International publication number)：2003084436
Application date： Sep. 10, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 解像性に優れ、ラインエッジラフネスの低減、断面レジストパターンの矩形性に優れるレジスト組成物の提供。【解決手段】 (A)アクリル酸と特定のモノシクロヘキサン又はビシクロヘプタンカルボラクトン等とのエステルを繰り返し単位とし、分子量分布が1.01〜1.50の範囲である(メタ)アクリル酸共重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
次の成分(A)及び(B)(A)次式(I)【化1】(式中、R1は、水素原子、または置換基を有していてもよいC1〜C5アルキル基を表し、Aは、単結合、アルキレンオキシアルキレン基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アルキレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表し、Bは式(I-1)〜(I-4)【化2】(式中、Xは、酸素原子、硫黄原子または置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、R2は、置換基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、またアルケニル基を表し、mは、0又は1〜5のいずれかの整数を表し、mが2以上の場合、R2はそれぞれ同一または相異なっていてもよく、また相互に結合して環を形成してもよい。)で表される置換基を表す。)で表される繰り返し単位を含み、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.01〜1.50の範囲である(メタ)アクリル酸共重合体、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、を有機溶剤に溶解してなる化学増幅型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/28 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (24)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA04R ,  4J100BC12P ,  4J100BC52Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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