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J-GLOBAL ID：200903029997419336

感放射線組成物

Inventor：
中野 浩二

About 中野 浩二

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▲高▼田 芳宏

About ▲高▼田 芳宏

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久保 孝史

About 久保 孝史


Applicant, Patent owner：
三菱化学株式会社

About 三菱化学株式会社


Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999046374
Publication number (International publication number)：2000241978
Application date： Feb. 24, 1999
Publication date： Sep. 08, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 特に他の膜層、とりわけ酸性の上層反射防止膜によるパターン形状への影響を受けにくく、未露光部であるパターンの高さやパターン頭部の矩形性を保つことが出来る感放射線組成物を提供する。【解決手段】 塗膜形成樹脂(A)、光酸発生剤(B)及び有機塩基(C)を含有する感放射線組成物に於いて、塗膜形成樹脂(A)が、酸の存在下、それぞれ異なった分解率を示しアルカリ可溶となる、下記構造単位(I)と(III)からなる樹脂(A1)と、下記構造単位(II)と(III)からなる樹脂(A2)との混合物である感放射線組成物。
Claim (excerpt)：
塗膜形成樹脂(A)、光酸発生剤(B)及び有機塩基(C)を含有する感放射線組成物に於いて、塗膜形成樹脂(A)が、酸の存在下、それぞれ異なった分解率を示しアルカリ可溶となる、下記構造単位(I)と(III)からなる樹脂(A1)と、下記構造単位(II)と(III)からなる樹脂(A2)との混合物である樹脂組成物であって、樹脂(A1)のQとM(ここで、樹脂(A1)のQは、構造単位(I)のモル数/{構造単位(I)のモル数+構造単位(III)のモル数}であり、樹脂(A1)のMは、塗膜形成樹脂(A)の構造単位(I)を全て(III)に置き換えた場合のポリスチレン換算重量平均分子量である。)の値が、0.45≦Q≦1.0、かつ500≦M≦8000であることを特徴とする感放射線組成物。【化1】(ただし、R1 、R5 、及びR7 はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1以上2以下のアルキル基を表し、R4 及びR6 はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の鎖状または環状のアルキル基を表す。また、R2 とR3 あるいはR2 とR4 とが互いに結合して、炭素数3以上10以下の環を形成していてもよい。)
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (16)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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