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J-GLOBAL ID:200903030742334858

撮像装置およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 加藤 公久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003146149
Publication number (International publication number):2004031939
Application date: May. 23, 2003
Publication date: Jan. 29, 2004
Summary:
【課題】マイクロレンズ上に必要とされるエアギャップを損なうことなく、イメージセンサを保護する為のカバーをイメージセンサへと取り付ける。【解決手段】上記課題は、撮像装置の電気素子(120)を含む基板(110)と、前記基板(110)上にあるレンズ(130)のアレイと、前記基板(110)上にあり、前記レンズ(130)のアレイを取り囲む離間部材(220)と、前記離間部材(220)へと取り付けられたカバー(240)とを含み、前記カバー(240)が前記レンズ(130)のアレイ上にあることを特徴とする撮像装置により解決される。【選択図】図2A
Claim (excerpt):
撮像装置の電気素子(120)を含む基板(110)と、 前記基板(110)上にあるレンズ(130)のアレイと、 前記基板(110)上にあり、前記レンズ(130)のアレイを取り囲む離間部材(220)と、 前記離間部材(220)へと取り付けられたカバー(240)とを含み、 前記カバー(240)が前記レンズ(130)のアレイ上にあることを特徴とする撮像装置。
IPC (2):
H01L27/14 ,  H04N5/335
FI (3):
H01L27/14 D ,  H04N5/335 E ,  H04N5/335 V
F-Term (14):
4M118AA08 ,  4M118AB01 ,  4M118BA14 ,  4M118FA06 ,  4M118GD04 ,  4M118GD07 ,  4M118HA20 ,  5C024AX01 ,  5C024CY47 ,  5C024CY48 ,  5C024EX22 ,  5C024EX23 ,  5C024EX43 ,  5C024GY31
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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