レジストおよびリソグラフィー方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 村松貞男 , 橋本良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003333986
Publication number (International publication number)：2005099500
Application date： Sep. 25, 2003
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：

【課題】現像液による現像工程が不要なレジスト、およびこのようなレジストを用いたリソグラフィー方法を提供する。【解決手段】被処理体上に、ポリ乳酸、ポリブチレンサクシネートおよびポリカプロラクトンからなる群より選択される脂肪族ポリエステルを含有するレジストを塗布し、前記レジストの一部に選択的に紫外線を露光して紫外線照射部のレジストを分解して揮発させ、紫外線未照射部にレジストパターンを残存させることを特徴とするリソグラフィー方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

脂肪族ポリエステルを含有することを特徴とするレジスト。

IPC (3)：

G03F7/039 , G03F7/36 , H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 501 , G03F7/36 , H01L21/30 502R

F-Term (9)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BF29 , 2H025FA03 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA03 , 2H096GA45

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

特許第3369471号

Cited by examiner (10)

感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-331855 Applicant：富士写真フイルム株式会社
パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-325915 Applicant：株式会社日立製作所
放射線に感光性の混合物のための増感剤としてのポリラクチド化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-057633 Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

誘電体バリア放電Xeエキシマランプを用いたポリマーのフォトエッチング

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